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J-GLOBAL ID:201902254304579123   整理番号:19A0859090

ニオブ酸ビスマスマグネシウム薄膜の微細構造と誘電特性に及ぼす界面構造の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of interface structure on microstructure and dielectric properties of bismuth magnesium niobate thin films
著者 (13件):
資料名:
巻: 45  号:ページ: 10056-10062  発行年: 2019年 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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ニオブ酸ビスマスマグネシウム(Bi_3/2MgNb_3/2O_7,BMN)薄膜を,ゾル-ゲルスピンコーティング法とそれに続く急速熱アニーリング法を用いて,裸のSiO_2/HR-SiとPt/TiO_2/SiO_2/HR-Si基板上に調製した。2種類のBMN膜の結晶構造と調整可能誘電特性に及ぼす界面の影響を調べた。BMN/SiO_2界面構造を有するSiO_2/Si基板上に調製したBMN膜は,より高い配向性とより良い結晶性を有することが判明した。BMN/SiO_2界面構造を有する堆積したBMN薄膜は52.5%の優れた同調性を示したが,BMN/Pt界面構造を有する膜の相対的に小さな可同調性値を示した。これは,膜と基板間の界面状態,電場分布,配向度がBMN薄膜の微細構造と調整可能誘電特性への影響の原因であることを示唆した。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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セラミック・磁器の性質  ,  酸化物薄膜 

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