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J-GLOBAL ID：201902254560229204   整理番号：19A0511873

IMD技術により作製したMgB2多芯線 アニーリング中のMgB2層形成の研究【JST・京大機械翻訳】

MgB2 Multicore Wire Prepared by IMD Technology-Investigation of the MgB2 Layer Formation During Annealing

著者 (5件)： Hasler Wolfgang (Leibniz Institute for Solid State and Materials Research Dresden (IFW Dresden), Dresden, Germany) ,  Kovac Pavol (Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Bratislava, Slovakia) ,  Scheiter Juliane (Leibniz Institute for Solid State and Materials Research Dresden (IFW Dresden), Dresden, Germany) ,  Rosova Alica (Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Bratislava, Slovakia) ,  Pachla Wacek (Institute of High Pressure Physics, Polish Academy of Sciences, Warszawa, Poland)
資料名： IEEE Transactions on Applied Superconductivity  (IEEE Transactions on Applied Superconductivity)
巻： 27  号： 4  ページ： ROMBUNNO.6200504.1-4  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0177A  ISSN： 1051-8223  CODEN： ITASE9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 7コアMgB_2ワイヤを,Monel/Glidcop/Nb樹脂/Tiシースを有するIMD技術によって調製した。特別な特徴として,モノコアワイヤの最初の変形ステップを静水圧押出によって実行した。更なる変形は,スウェージング,ワイヤ描画,溝圧延により行った。温度と磁場に依存する金属組織断面,SEM,抵抗,および臨界電流測定により,モノおよびマルチコアワイヤのキャラクタリゼーションを行った。より詳細に拡散と反応プロセスを研究するために,いくつかのサンプルを異なる条件(ピーク温度,滞留時間)の下でアニールした。最良の特性,すなわち,フィラメントの均一な微細構造と最高の臨界電流密度を650°Cより低いピーク温度,Mgの融解温度でアニールした試料で観察した。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 微細構造 ,  静水圧押出 ,  臨界電流 ,  臨界電流密度 ,  フィラメント ,  スエージ加工 ,  キャラクタリゼーション ,  *焼なまし ,  *マグネシウム ,  融点 ,  圧延 ,  金属線 ,  磁場
準シソーラス用語： 描画 ,  *ホウ化マグネシウム , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 生体計測  (EL03020C) ,  音声処理  (JE05000E)

タイトルに関連する用語 (7件)： IMD ,  作製 ,  MgB2 ,  芯線 ,  アニーリング ,  層形成 ,  研究