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J-GLOBAL ID：201902255265787633   整理番号：19A2213903

2-ニトロベンジル-ケージ化N-ヒドロキシスルホンアミド類の合成と光化学研究【JST・京大機械翻訳】

Synthesis and photochemical studies of 2-nitrobenzyl-caged N-hydroxysulfonamides

著者 (8件)： Zhou Yang (Department of Chemistry and Biochemistry, Kent State University, Kent, OH 44242, USA) ,  Bharadwaj Vinay (School of Science, Auckland University of Technology, Auckland 1142, New Zealand) ,  Bharadwaj Vinay (Dodd-Walls Centre for Quantum and Photonic Technologies, New Zealand) ,  Rahman Mohammad S. (Department of Chemistry and Biochemistry, Kent State University, Kent, OH 44242, USA) ,  Sampson Paul (Department of Chemistry and Biochemistry, Kent State University, Kent, OH 44242, USA) ,  Brasch Nicola E. (School of Science, Auckland University of Technology, Auckland 1142, New Zealand) ,  Brasch Nicola E. (Dodd-Walls Centre for Quantum and Photonic Technologies, New Zealand) ,  Seed Alexander J. (Department of Chemistry and Biochemistry, Kent State University, Kent, OH 44242, USA)
資料名： Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry  (Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry)
巻： 384  ページ： Null  発行年： 2019年 
JST資料番号： D0721B  ISSN： 1010-6030  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近,光不安定保護基によりケージ化されたN-ヒドロキシスルホンアミド(RSO_2NHOH)は,潜在的な光活性ニトロキシル(HNO)ドナーとして大きな興味を引き付けている。O-N結合開裂を含む競合経路に対する光ケージ化N-ヒドロキシスルホンアミドからの望ましいHNO生成経路の選択性は,光トリガーの特異的光脱保護機構に依存した。付加的な炭酸塩リンカーを組み込んだ誘導体を含む,良く確立されたo-ニトロベンジル光保護基を組み込んだ新しいクラスの光ケージ化N-ヒドロキシスルホンアミドを示した。o-NO_2Bn-ON(H)SO_2CF_3および対応する2-ニトロ-4,5-ジメトキシベンジル類似体の光分解は,主要な光分解経路としてCF_3SO_2NH_2を放出するために,競合する光誘起O-N結合開裂を伴って,望ましいHNOおよびCF_3SO_2を生成した。対応する-SO_2CH_3類似体の光分解はO-N結合開裂のみをもたらした。o-ニトロ置換基の存在は光活性に必須であることを示した。親のHNOドナーCH_3SO_2NHOHの光放出が,o-NO_2Bn-OC(O)ON(H)SO_2CH_3の照射による主要生成物として観察され,望ましいHNO放出とO-N結合開裂がマイナー経路として起こった。各種の光生成物量子収率を光量測定により決定した。光分解の機構に及ぼす溶媒,pH,および空気の影響を,o-NO_2Bn-ON(H)SO_2CH_3について研究した。溶媒混合物(CH_3CNおよびリン酸緩衝液,pH7.0)中の溶媒の比率,緩衝液の水性成分のpH,および酸素の存在は,各光生成物の量およびO-N結合開裂に対する観察された速度定数に影響しなかった。種々の経路に対する可能な機構を提案した。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 開裂反応 ,  光分解 ,  発光 ,  類似物質 ,  脱保護基 ,  *光化学 ,  酸素 ,  炭酸塩 ,  量子収量 ,  ニトロ化 ,  ドナー
準シソーラス用語： リンカ ,  光活性化 ,  保護基 ,  *ケージ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (4件)： ベンジル ,  ケージ ,  光化学 ,  研究