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J-GLOBAL ID:201902255654321943   整理番号:19A0511547

大収集面積硬X線遷移端センサ用の厚い電気めっきビスマス吸収体の開発【JST・京大機械翻訳】

Development of Thick Electroplated Bismuth Absorbers for Large Collection Area Hard X-ray Transition Edge Sensors
著者 (8件):
資料名:
巻: 27  号:ページ: ROMBUNNO.2101105.1-5  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0177A  ISSN: 1051-8223  CODEN: ITASE9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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遷移端センサ(TES)は,固体X線分光計に対して最も高い分解能のいくつかを提供する。20keVまでのエネルギー範囲に対して,硬X線シンクロトロン光源で使用するためのTES検出器を開発した。TES分解能は熱容量の平方根と逆比例するので,小さな熱容量と大きなX線阻止能の両方を持つ吸収体を持つことが重要である。これらの基準を満たすために電気めっきビスマス(Bi)吸収体を開発した。Biは金より20keVでより小さいX線吸収を有するが,比熱は2桁小さく,全素子比熱を著しく増加させることなくより大きな収集面積(1mm~2まで)を可能にした。しかし,その低い熱伝導率のために,Bi吸収体はより長い熱化時間を持つ可能性がある。また,いくつかの蒸発Bi吸収体は,X線蛍光顕微鏡のためのX線線形状分析を妨げ,微量金属の最小検出限界を増加させる低エネルギー尾部をもつスペクトルを生成する可能性がある。Bi吸収体の粒径,残留抵抗比および均一性に及ぼすめっき電流密度,撹拌,膜厚およびシード層の厚さの影響を調べた。さらに,電気めっきの成功に重要な処理の考慮について議論する。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
パターン認識  ,  図形・画像処理一般 

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