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J-GLOBAL ID：201902256154256522   整理番号：19A0659247

3粒子1空孔および4粒子2空孔励起の活性空間処理を用いた経済的二重Electron結合方程式結合クラスタ法【JST・京大機械翻訳】

Economical Doubly Electron-Attached Equation-of-Motion Coupled-Cluster Methods with an Active-Space Treatment of Three-Particle-One-Hole and Four-Particle-Two-Hole Excitations

著者 (4件)： Ajala Adeayo O. (Department of Chemistry, Michigan State University) ,  Shen Jun (Department of Chemistry, Michigan State University) ,  Piecuch Piotr (Department of Chemistry, Michigan State University) ,  Piecuch Piotr (Department of Physics and Astronomy, Michigan State University)
資料名： Journal of Physical Chemistry A  (Journal of Physical Chemistry A)
巻： 121  号： 18  ページ： 3469-3485  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0334B  ISSN： 1089-5639  CODEN： JPCAFH  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 以前に開発された活性空間二重電子付着(DEA)結合クラスタ(EOM)結合クラスタ(CC)法を,4p-1hと4p-2h項の基底状態と励起状態を利用する,4p-1hと4p-2h項のみを用いて,活性軌道を用いて選択した(N-2)電子閉殻系の基底状態と励起状態を利用した[Shen,J.Chem.Phys.,p.138,194102]を開発した。この方法は,4p-1hと4p-2h項のみを用いる。。これらの結果を用いて,4p-1hと4p-2h項のみを用いた。この方法を用いて,4p-1hと4p-2h項を選択した。メチレンの低位一重項及び三重項状態を含む計算により説明されるように,3p-1h及び4p-2h励起の活性空間処理によるDEA-EOMCC法は,3p-1hの完全処理及び4p-2h励起の完全又は活性空間処理を用いて得られた結果を正確に再現できた。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *励起 ,  電子付着 ,  三重項 ,  一重項 ,  基底状態 ,  *クラスタ ,  励起状態 ,  閉殻系 ,  *結合クラスタ法 ,  メチレン基
準シソーラス用語： Electron , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 分子の電子構造  (BH05010Q) ,  光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (7件)： 空孔 ,  励起 ,  活性 ,  空間処理 ,  経済 ,  方程式 ,  結合クラスタ法