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J-GLOBAL ID:201902256359528485   整理番号:19A1046680

二段階アニーリング処理中のNi基超合金の微細構造発展と結晶粒微細化機構【JST・京大機械翻訳】

Microstructural evolution and grain refinement mechanisms of a Ni-based superalloy during a two-stage annealing treatment
著者 (15件):
資料名:
巻: 151  ページ: 445-456  発行年: 2019年 
JST資料番号: D0448C  ISSN: 1044-5803  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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著者らの以前の研究において,不均一変形微細構造は,単一アニーリング処理により比較的均一な再結晶粒により置き換えられることが分かった。しかし,いくつかの比較的大きな再結晶粒がある。本研究では,変形試料に対する二段階焼鈍処理試験を,結晶粒をより微細化し,均一性を改善するために設計した。結果は,二段階アニーリング処理が,単一アニーリング処理と比較して,より良く結晶粒を微細化し,微細構造均一性を改善できることを示した。したがって,粒のより均一な分布が得られる。新しい実験的知見に基づいて,変形粗粒子の微細化と均質化の機構を検討した。δ相は,温度が900~°Cのとき,最初のアニーリング段階で再結晶粒の境界の周りに容易に析出することが分かった。析出したδ相は粒成長を効果的に抑制できる。しかし,アニーリング時間の増加とともに,δ相の析出速度は,Nb元素含有量の減少により徐々に減少した。したがって,ピン止め力は,より小さくなり,そして,追跡調査は,再結晶粒を,比較的大きなサイズに成長させた。したがって,第一段階アニーリング処理の保持時間は,最終粒径とδ相の含有量に大きな影響を及ぼす。第2段階アニーリング処理の間,より高い温度によって誘発された核形成速度の増加とδ相のピン止め効果は,均一で微細な結晶粒を作る。実行可能なパラメータは以下の通りである。第一段階アニーリング処理は900°C~12hで,第二段階アニーリング処理は980°C~60minであった。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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熱処理技術  ,  圧延技術 

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