文献

J-GLOBAL ID：201902256553405669   整理番号：19A0106422

ボトムアップ/トップダウンレーザー加工による半導体ナノ・マイクロ結晶合成

著者 (1件)： 中村大輔 (九大)
資料名： 光アライアンス  (Optical Alliance)
巻： 30  号： 1  ページ： 38-42  発行年： 2019年01月01日 
JST資料番号： L1746A  ISSN： 0917-026X  CODEN： HARAEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高強度レーザーで実現される物質のプラズマ化現象を利用したボトムアップ手法による半導体ナノ結晶合成およびトップダウン手法によるマイクロ結晶球合成と,これらナノ・マイクロ結晶の光電子デバイス応用について紹介する。(著者抄録)

シソーラス用語： *パルスレーザ蒸着 ,  *半導体薄膜 ,  *ナノ粒子 ,  酸化亜鉛 ,  結晶成長 ,  半導体 ,  レーザアブレーション ,  レーザ照射 ,  渦 ,  光渦レーザー照射 ,  *酸化亜鉛ナノ粒子 ,  半導体成長
準シソーラス用語： *PLD【蒸着】 ,  *ZnOナノ粒子 ,  半導体結晶成長

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  レーザの応用  (BD04100V)

タイトルに関連する用語 (4件)： ボトムアップ ,  トップダウン ,  レーザー加工 ,  マイクロ結晶