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J-GLOBAL ID:201902257669161015   整理番号:19A2351614

Li金属アノードを再生するための固体界面としてのグラファイト/SiO_2の超薄二重層【JST・京大機械翻訳】

Ultrathin Bilayer of Graphite/SiO2 as Solid Interface for Reviving Li Metal Anode
著者 (13件):
資料名:
巻:号: 36  ページ: e1901486  発行年: 2019年 
JST資料番号: W2778A  ISSN: 1614-6832  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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リチウム金属アノードは,高エネルギー密度貯蔵を必要とする実用化を駆動することが期待されている。しかしながら,金属リチウムの直接使用は,不安定な固体電解質界面(SEI)と望ましくないリチウムデンドライト成長のために,安全性の懸念,低いレート能力,および貧弱なサイクル性能を引き起こす。これらの問題を解決するために,Li金属チップ上の高周波スパッタグラファイト-SiO_2超薄二層を,有効なSEI層として初めて実証した。これにより,裸のLiと比較して,安定な電圧プロファイルと優れた長時間のめっき/ストリッピングを達成するために,樹枝状結晶のない均一なLi堆積がもたらされる。裸のLiアノードと比較して,リチウムニッケルコバルトマンガンオキシドカソード(NMC111)およびチタン酸リチウムと結合したグラファイト-SiO_2二層修飾Liアノードは,改善された容量保持,より高いレートでのより高い容量,より長いサイクル安定性およびより低い電圧ヒステリシスを示した。グラファイトはめっきLiとLi電極間の電気ブリッジとして作用し,インピーダンスを低下させ,Liめっき/ストリッピング中の体積膨張を緩衝する。超薄SiO_2層の添加はLiイオン拡散とリチオ化/脱リチオ化を容易にし,高い電解質親和性,高い化学安定性,および高いYoung率を提供し,Li樹枝状晶成長を抑制した。Copyright 2019 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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