文献
J-GLOBAL ID:201902258917535542   整理番号:19A2224144

自己剥離接着リソグラフィーによるナノギャップ電極の自発形成【JST・京大機械翻訳】

Spontaneous Formation of Nanogap Electrodes by Self-Peeling Adhesion Lithography
著者 (3件):
資料名:
巻:号: 17  ページ: e1900243  発行年: 2019年 
JST資料番号: W2484A  ISSN: 2196-7350  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
接着リソグラフィー(a-lit)は,異種金属間のナノスケール間隙を形成するための簡単な方法である。その通常の形態では,金属は基板上にパターン化され,アルキル官能化自己集合単分子層で被覆され,それを他の金属に非接着性にする;第二の金属は基板の全面積にわたって均一に堆積した。最後に,自己集合単分子層と接触する第二金属の部分を,接着テープまたは膜を用いて剥離し,基板上に第一および第二金属を,それらの間にナノスケール間隔で残した。ここでは,2番目の金属上に高い内部歪を有する接着膜に堆積することにより,いかなる印加力も必要なく剥離層の自発的な剥離を誘起することができることを示した。修正手順は実装を単純化し,ギャップの望ましくない拡大を引き起こす外部応力を除去する。約10nmの結果としての電極分離は,接着リソグラフィーを用いて得られた最小値の中にある。Copyright 2019 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
炭素とその化合物 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る