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J-GLOBAL ID:201902259531198557   整理番号:19A0658925

ロバストで自己修復可能なバルク超疎水性高分子被覆【JST・京大機械翻訳】

Robust and Self-Healable Bulk-Superhydrophobic Polymeric Coating
著者 (4件):
資料名:
巻: 29  号: 20  ページ: 8720-8728  発行年: 2017年 
JST資料番号: T0893A  ISSN: 0897-4756  CODEN: CMATEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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超疎水性被覆の階層的トポグラフィーのトップにおける本質的な化学の摂動のために,低い表面エネルギー分子のいくつかの刺激(温度,湿度,pHなど)駆動再会合により,障害のある防汚特性の回復が一般的に達成される。しかし,不適切な地形を持つ物理的に損傷された材料における超疎水性の自己修復は,達成するのが困難であり,このバイオインスパイアード特性の実用的有用性にとって非常に重要である。最近,階層的特徴を回復することができるが,適切な外部刺激の適用後にのみ,非常に少ない材料が導入されている。さらに,適切な刺激の最適化は,実際のシナリオにおいて挑戦的な問題である可能性がある。ここでは,その例外的な機械的性質のために良く認識されている修飾酸化グラフェンナノシートの適切で共有結合的な統合のために,脂肪族第一アミンと脂肪族アクリレート基の間の単純でロバストな1,4-共役付加反応を戦略的に利用した。合成された材料は,高分子被覆の表面の物理的浸食と種々の物理的操作などを含む種々の厳しい物理的絶縁物からの防汚特性を保護する顕著な能力を示したが,同じ高分子被覆に対する圧力の適用後には,物理的に損傷された高分子被覆は高接着性(接触角ヒステリシス~50°)と超疎水性になった。しかし,圧力を解放した後に,固有の非接着性(接触角ヒステリシス<5°)の極端な濡れ性は,外部刺激を必要とせずに,本質的な階層的トポグラフィーの回復を通して,高分子被覆において自己回復した。このユニークな材料は,(i)非常に撥水性の表面上に書き換え可能な水性パターンを開発し,(ii)高分子被覆表面上の水溶性剤の選択的含浸,極端な撥水性特性の永続的な変化なしに,(i)開発した,(ii)高分子被覆の表面上への水溶性試薬の選択的含浸。独特の自己修復プロセスは,親水性小分子から作られた超疎水性プリントを最終的に提供した。この印刷は,従来の超疎水性材料を用いて達成するのが極めて困難な水性媒体から直接行われた。このような多機能界面は,親水性小分子のデリバリー,触媒作用,コロイドの自己集合,再利用可能な化学センシングなどを含む種々のスマート応用のための重要な手段となり得る。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (4件):
分類
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固-液界面  ,  炭素とその化合物  ,  コロイド化学一般  ,  界面化学一般 
タイトルに関連する用語 (5件):
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