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J-GLOBAL ID：201902260006224876   整理番号：19A1560242

2×10-10PAM3/sの下限による圧力漏れの校正装置【JST・京大機械翻訳】

A calibration apparatus for pressure leak with the lower limit of $2¥times 10^{-10}¥ ¥mathrm{Pam}^{3}/¥mathrm{s}$

著者 (5件)： Lu Yaowen (Beijing Engineering Technology, Research Center for Vacuum Metrology and Test Beijing, Orient Institute of Measurement and Test, Beijing, China) ,  Yuan Yuan (Metrology Lab of AECC South Industry Co., Ltd.) ,  Yang Chuansen (Beijing Engineering Technology, Research Center for Vacuum Metrology and Test Beijing, Orient Institute of Measurement and Test, Beijing, China) ,  Li Detian (Lanzhou Institute of Physics, Lanzhou Beijing, China) ,  Wu Duan (Metrology Lab of AECC South Industry Co., Ltd.)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019  号： IVEC  ページ： 1-2  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 小さい漏れ速度での漏れの較正問題を解決するために,±b2×10~-10Pam±b3/sの較正下限を持つ較正装置を開発した。蓄積チャンバーにおけるガス混合物中の指標ガスの濃度は,蓄積法を用いて増加した。標準ガス混合物を直接測定と膨張圧力減衰法によって得た。ガス混合物における分別効果は除去され,質量分析チャンバーにおける漏れ指標ガスの分圧は,一定の流れコンダクタンスを有する分子流法とポンピングオリフィスの動的注入を用いることによって増加した。コンパレータとして四重極質量分析計(QMS)を用いて,圧力漏れの漏れ速度を,漏れを通しての蓄積ガス中の漏れ指標ガスの分圧と質量分析チャンバー内の標準ガス混合物中のそれを測定することによって較正することができた。測定結果に及ぼす温度の影響は,±b296+0.02K以内の温度を制限するために,高精度二段半導体水浴法を用いることにより低減した。実験結果は,装置の較正が±b7×10~6Pam~±b3/sから±b2×10~10~10Pam±b3/sの範囲にあり,標準不確実性は2.0%と7.5%の間にあることを示した。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 分子流 ,  不確実性 ,  質量分析 ,  *分圧 ,  オリフィス ,  四重極質量分析計 ,  半導体 ,  混合気体 ,  コンダクタンス ,  コンパレータ
準シソーラス用語： 高精度 ,  直接測定 ,  チャンバ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I) ,  信号理論  (ND02020G)

タイトルに関連する用語 (1件)： 下限