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J-GLOBAL ID：201902260085608992   整理番号：19A0660157

ベンチマーク分子-金属表面反応に関する量子モンテカルロ計算 H_2+Cu(111)【JST・京大機械翻訳】

Quantum Monte Carlo Calculations on a Benchmark Molecule-Metal Surface Reaction: H₂ + Cu(111)

著者 (4件)： Doblhoff-Dier Katharina (Leiden Institute of Chemistry, Gorlaeus Laboratories, Leiden University, The Netherlands) ,  Meyer Joerg (Leiden Institute of Chemistry, Gorlaeus Laboratories, Leiden University, The Netherlands) ,  Hoggan Philip E. (Institute Pascal, UMR 6602 CNRS, University Blaise Pascal, France) ,  Kroes Geert-Jan (Leiden Institute of Chemistry, Gorlaeus Laboratories, Leiden University, The Netherlands)
資料名： Journal of Chemical Theory and Computation  (Journal of Chemical Theory and Computation)
巻： 13  号： 7  ページ： 3208-3219  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2328A  ISSN： 1549-9618  CODEN： JCTCCE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 不均一触媒の正確なモデリングは,高精度ポテンシャルエネルギー面の利用可能性を必要とする。密度汎関数理論の枠内では,これらは交換相関汎関数に大きく依存する。一方,高レベルab initio計算は,金属スラブのシステムサイズと金属特性のために困難である。ここでは,解離化学吸着障壁高さに焦点を合わせて,ベンチマーク系H_2+Cu(111)に対する量子モンテカルロ(QMC)研究を提示した。これらの計算的に非常に困難なab initio計算は,化学的に正確な半経験的値をもつ1.6±1.0kcal/mol以内で一致した。結果の信頼性を評価するために,時間ステップ誤差や局所誤差などの残留誤差を詳細に解析した。ここで提示したベンチマーク研究は,現時点で計算的に実行可能な切断端にある。そのような計算において,達成可能な精度だけでなくQMC内で生じる課題も示し,本研究では,著者らがモーメントに立ち,将来においてより正確な結果を得ることができるという明確な描像を提示した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ベンチマーク ,  モデリング ,  信頼性 ,  解離吸着 ,  金属性 ,  ポテンシャルエネルギー面 ,  密度汎関数法 ,  汎関数 ,  モーメント ,  *モンテカルロ法 ,  *表面反応 ,  *計算
準シソーラス用語： 第一原理計算 ,  障壁高さ ,  不均一系触媒 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 分子の電子構造  (BH05010Q)

タイトルに関連する用語 (5件)： ベンチマーク ,  分子 ,  金属表面 ,  量子 ,  モンテカルロ計算