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J-GLOBAL ID：201902260825249308   整理番号：19A0668946

マイクロ波シース-電圧結合プラズマを用いたPECVDにより堆積したa-C:H及びa-C:H:Si膜の摩擦特性に及ぼす湿度の影響

Effect of humidity on the friction properties of a-C:H and a-C:H:Si films deposited by PECVD employing microwave sheath-voltage combination plasma

著者 (6件)： TANAKA Ippei (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  TANAKA Ippei (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  IKEDA Tomoya (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  NAKANO Toshimitsu (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  KOUSAKA Hiroyuki (Gifu Univ., Gifu, JPN) ,  FURUKI Tatsuya (Gifu Univ., Gifu, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 58  号： SA  ページ： SAAC06.1-SAAC06.8  発行年： 2019年02月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マイクロ波シース-電圧結合プラズマ(MVP)を用いることにより,Siドープダイヤモンド状炭素(a-C:H:Si)膜を約100μm h^-1の超高速で堆積され,従来のa-C:H:Si膜と同様の摩擦係数0.05~0.1が示されている。しかし,MVPで堆積したa-C:H:Si膜の摩擦特性に及ぼす湿度の影響は研究されていない。10,30,および50%の異なるデューティ比で,MVPを用いて蒸着したa-C:H:Si膜の摩擦特性を,10%-50%RHの乾燥条件下で,鋼球をa-C:H:Si膜に対して滑らせて調べた。10%の低デューティ比で蒸着したa-C:H:Si膜は,高分子構造になった。a-C:H:Si膜の摩擦係数は相対湿度の減少と共に減少した。10%の低い相対湿度において,0.06以下の低摩擦が,接合ボール上に形成された非晶質炭素構造を有する転写膜によって達成されることを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマ ,  *プラズマさや ,  *プラズマCVD ,  アモルファスシリコン ,  水素化物 ,  特性 ,  依存性 ,  ダイヤモンド状炭素 ,  ケイ素 ,  ドーピング ,  摩擦係数 ,  比率 ,  球 ,  分子構造 ,  構造 ,  転写
準シソーラス用語： *マイクロ波プラズマ ,  *プラズマシース ,  PECVD ,  アモルファス-Si:H ,  摩擦特性 ,  湿度依存性 ,  デューティ比 ,  鋼球 ,  高分子構造 ,  非晶質構造

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  気体放電  (BJ03020T)

引用文献 (27件)：

• J. Robertson, Mater. Sci. Eng. R 37, 129 (2002).
• K. Kato, N. Umehara, and K. Adachi, Wear. 254, 1062 (2003).
• A. K. Gangopadhyay, P. A. Willermet, M. A. Tamor, and W. C. Vassell, Tribol. Int. 30, 9 (1997).
• S. S. Camargo Jr, A. L. B. Neto, R. A. Santos, F. L. Freire Jr, R. Carius, and F. Finger, Diamond Relat. Mater. 7, 1155 (1998).
• H. Mori, N. Takahashi, T. Iseki, H. Tachikawa, and T. Ohmori, Proc. Int. Trib. Conf. Kobe, 2005, p. 310.

タイトルに関連する用語 (8件)： マイクロ波 ,  シース ,  プラズマ ,  PECVD ,  堆積 ,  Si膜 ,  摩擦特性 ,  湿度