文献

J-GLOBAL ID：201902261677376264   整理番号：19A1078127

一段スパッタリングによる大面積低コスト誘電体完全吸収体【JST・京大機械翻訳】

Large-Area Low-Cost Dielectric Perfect Absorber by One-Step Sputtering

著者 (12件)： Wang Shaowei (State Key Laboratory of Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 200083, China) ,  Wang Shaowei (Shanghai Engineering Research Center of Energy-Saving Coatings, Shanghai, 200083, China) ,  Chen Feiliang (State Key Laboratory of Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 200083, China) ,  Chen Feiliang (Shanghai Engineering Research Center of Energy-Saving Coatings, Shanghai, 200083, China) ,  Ji Ruonan (State Key Laboratory of Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 200083, China) ,  Ji Ruonan (Shanghai Engineering Research Center of Energy-Saving Coatings, Shanghai, 200083, China) ,  Hou Mingming (School of Optical and Electronic Information, Huazhong Univeristy of Science and Technology, Wuhan, 430074, China) ,  Yi Fei (School of Optical and Electronic Information, Huazhong Univeristy of Science and Technology, Wuhan, 430074, China) ,  Zheng Weibo (State Key Laboratory of Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 200083, China) ,  Zhang Tao (State Key Laboratory of Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 200083, China) ,  Lu Wei (State Key Laboratory of Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 200083, China) ,  Lu Wei (Shanghai Engineering Research Center of Energy-Saving Coatings, Shanghai, 200083, China)
資料名： Advanced Optical Materials  (Advanced Optical Materials)
巻： 7  号： 9  ページ： e1801596  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2486A  ISSN： 2195-1071  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非常に高い吸収を持つ完全吸収体は,太陽エネルギーの収穫や迷光の除去など多くの応用にとって極めて重要である。それらの応用のための重要なポイントは,簡単な製造プロセスによる超低光子脱出率(PER)であり,エネルギー利用を最大化するか,または迷光の影響を最小化することを可能にする。超薄完全吸収体(226nmの全厚さ)を,窒化アルミニウム(AlN)中に埋め込まれた誘電プラズモンナノ複合材料(TiN)と反射防止被覆(ARC)を用いて報告した。それは,柔軟なポリエチレン-テレフタラートを含むほとんどの基板上で,非常に大きな面積(200×200mm2)での低コスト一段階スパッタリング法により作製できる。平均PERは400~750nmの全可視域でわずか0.4%であった。例として,吸収体をレーザ走査共焦点顕微鏡において用いて,強いレーザ迷光を除去し,信号対雑音比を増強した。これにより,画像の明瞭度とコントラストを著しく改善した。それは,太陽エネルギーを収穫する必要条件に適合することができるだけでなく,弱い信号検出装置などの迷光除去にも適している。Copyright 2019 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： SN比 ,  画像 ,  ナノ複合材料 ,  生産工程 ,  迷光 ,  プラズモン ,  共焦点顕微鏡 ,  コントラスト ,  *スパッタリング ,  *誘電体 ,  レーザ ,  窒化アルミニウム ,  太陽エネルギー ,  *吸収体
準シソーラス用語： *大面積 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 誘電体 ,  大面積デバイス ,  完全吸収体 ,  プラズモン ,  スパッタリング

分類 (4件)： 表面の電子構造  (BM02080J) ,  固体プラズマ  (BM02160W) ,  非線形光学  (BD05000T) ,  赤外・遠赤外領域の測光と光検出器  (BD07032W)

タイトルに関連する用語 (4件)： スパッタリング ,  大面積 ,  誘電体 ,  吸収体