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J-GLOBAL ID：201902261758153261   整理番号：19A1554524

広いスペクトル範囲と増強された光応答を有する大面積MOS_2-MoO_xヘテロ接合薄膜光検出器【JST・京大機械翻訳】

Large-area MoS₂-MoO_x heterojunction thin-film photodetectors with wide spectral range and enhanced photoresponse

著者 (5件)： Im Healin (School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University, Suwon 16419, South Korea) ,  Liu Na (School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University, Suwon 16419, South Korea) ,  Bala Arindam (School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University, Suwon 16419, South Korea) ,  Kim Sunkook (School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University, Suwon 16419, South Korea) ,  Choi Woong (School of Materials Science and Engineering, Kookmin University, Seoul 02707, South Korea)
資料名： APL Materials (Web)  (APL Materials (Web))
巻： 7  号： 6  ページ： 061101-061101-6  発行年： 2019年 
JST資料番号： U7122A  ISSN： 2166-532X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiO_2/Si基板上のMoS_2-MoO_xヘテロ接合薄膜構造における増強された光応答を報告し,可視から近紫外光までの広いスペクトル範囲をもつ高応答性光検出器としての利用可能性を実証した。垂直に積層したMoS_2-MoO_xヘテロ接合構造を,MoO_x薄膜堆積から成る二段階化学蒸着と,それに続く堆積したMoO_xのMoS_2への最上部領域の硫化により得た。ヘテロ接合構造の形成を透過型電子顕微鏡とX線光電子分光分析により明らかにした。波長405nmと638nmの入射光の下で,著者らのMoS_2-MoO_xヘテロ接合薄膜構造は,MoO_x薄膜より著しく高い吸光度,光応答性,および比検出能を示した。さらに,ヘテロ接合薄膜構造を通して非常に均一な光応答が得られた。これらの結果は,MoS_2-MoO_xヘテロ接合薄膜構造が,活性マトリックス高エネルギー選択光検出器を構築するための大面積フォトダイオードアレイに拡張可能な有望な材料システムであることを実証した。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線光電子分光法 ,  *スペクトル ,  化学蒸着 ,  近紫外線 ,  吸光度 ,  応答特性 ,  *ヘテロ接合 ,  *光検出器 ,  波長 ,  透過型電子顕微鏡 ,  *薄膜
準シソーラス用語： *光応答 ,  入射光 ,  シリコンウエハ ,  *大面積 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： スペクトル ,  増強 ,  光応答 ,  大面積 ,  ヘテロ接合 ,  薄膜 ,  光検出器