フォトクロミック1,2-ジアリールエテンの疲労抵抗への新しい洞察【JST・京大機械翻訳】

Pariani Giorgio; Quintavalla Martino; Colella Letizia; Colella Letizia; Oggioni Luca; Oggioni Luca; Castagna Rossella; Ortica Fausto; Ortica Fausto; Bertarelli Chiara; Bertarelli Chiara; Bianco Andrea

文献

J-GLOBAL ID：201902261850009555 整理番号：19A1888732

フォトクロミック1,2-ジアリールエテンの疲労抵抗への新しい洞察【JST・京大機械翻訳】

New Insight into the Fatigue Resistance of Photochromic 1,2-Diarylethenes

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資料名：
巻： 121 号： 42 ページ： 23592-23598 発行年： 2017年
JST資料番号： W1877A ISSN： 1932-7447 CODEN： JPCCCK 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

フォトクロミックジアリールエテンは分子スイッチの最も重要なクラスの一つであり,それらの疲労抵抗はいくつかの論文で報告されている。以前の研究は,ジチエニルエテンの4-位置におけるペルフルオロシクロペンテンとメチルの存在がスイッチング抵抗を改善することを示した。しかし,化学構造を疲れ抵抗と相関させる一般的なガイドラインはまだ見出されていない。本研究では,光変換中の二つの異性体状態により吸収された光に関連するジアリールエテンの疲労抵抗の記述において異なる考えを与えた。電気活性置換基を持たない芳香環とは異なる2種類の1,2-ジアリールエテン類に対して,特異的分子構造,すなわち特異的分子構築ブロックの存在によるよりも,疲労抵抗は着色形により吸収される光の線量に依存することが分かった。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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原子・分子のクラスタ , 光化学反応,ラジカル反応

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