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J-GLOBAL ID：201902262117064079   整理番号：19A0658531

スピロチオピラン系可逆可飽和フォトレジスト【JST・京大機械翻訳】

Spirothiopyran-Based Reversibly Saturable Photoresist

著者 (3件)： Vijayamohanan Harikrishnan (Department of Materials Science and Engineering, Rensselaer Polytechnic Institute, New York, United States) ,  Palermo Edmund F. (Department of Materials Science and Engineering, Rensselaer Polytechnic Institute, New York, United States) ,  Ullal Chaitanya K. (Department of Materials Science and Engineering, Rensselaer Polytechnic Institute, New York, United States)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 29  号： 11  ページ： 4754-4760  発行年： 2017年 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超解像リソグラフィーは,高スループットで深いサブ波長分解能で三次元(3D)ナノパターン形成を達成する見込みを持つ。これまでに実証された3D超解像リソグラフィー法は,主に,可飽和可逆スイッチ可能反応を書込みステップと結合させるだけでなく,低い飽和閾値を持つフォトレジスト化学の欠如により,本質的にすべて連続している。ここでは,スピロチオピランの可逆的光異性化をチオール-Michael共役付加反応と組み合わせることが必要な光化学特性を達成することを示した。緑色光は非常に低い強度閾値でチオール-Michael付加書込みステップの阻害を飽和することが分かった。スピロチオピラン官能化ポリエチレングリコール共重合体を形成することにより,緑色光による阻害を用いた架橋による空間制御を実証した。光動力学シミュレーションと組み合わせた速度論測定は,従来の光源(例えば,2W緑色レーザ)を用いたスピロチオピランマレイミドベース書込みシステム上の干渉リソグラフィーが,大面積(数百ミクロン)上の厚膜(数十ミクロン)で超解像特徴(約45nm幅)を供給することを示した。チオール-Michael付加反応によるスピロチオピランの可逆的フォトクロミックスイッチングのユニークな組み合わせは,高度に並列化した3D超解像書込みシステムを実現するための重要なステップを示す。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 厚膜 ,  超解像 ,  リソグラフィー ,  付加反応 ,  光異性化 ,  分解能 ,  *フォトレジスト ,  スイッチ ,  速度論 ,  三次元 ,  化学的性質 ,  官能化 ,  光源
準シソーラス用語： 大面積 ,  干渉リソグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

タイトルに関連する用語 (2件)： 飽和 ,  フォトレジスト