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J-GLOBAL ID:201902262842769365   整理番号:19A1415950

光励起後の発光遅延のモデリング【JST・京大機械翻訳】

Modeling emission lag after photoexcitation
著者 (6件):
資料名:
巻: 122  号: 16  ページ: 164501-164501-11  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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金属と半導体からの光励起後の遅延発光の理論モデルを示した。その数値的な実装は,rf光注入器における光陰極をモデル化するために用いられるビーム光学コードのために設計されている。このモデルは,サブピコ秒レベルでの放出遅延をもたらす飛行時間と散乱事象の時間を組み込むことによって放出された電子分布のモーメントとして光電流と平均横エネルギーを予測するためのモーメントアプローチを拡張する。このモデルは,輸送中のレーザ侵入深さと多重散乱事象の結果として,動的表面抽出場とエネルギー分布と放出時間の変化を説明する。レーザジッタがある場合とない場合のバンチ形状と継続時間を予測するために,Particle-in-CellコードMICHELLEにおける使用を示した。超短パルスに対する遅延放出効果の結果を論じた。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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金属薄膜  ,  光電子放出 
タイトルに関連する用語 (3件):
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