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J-GLOBAL ID：201902263099988286   整理番号：19A0662895

ガフクロミックEBT2の前曝露に対する紫外線照射期間【JST・京大機械翻訳】

Ultraviolet ray irradiation duration for the pre-exposure of Gafchromic EBT2

著者 (8件)： Katsuda Toshizo (Faculty of Health Sciences, Butsuryo College of Osaka, 3-33, Otorikita-machi Nishi-ku, Sakai-city, Osaka, 593-8328, Japan) ,  Gotanda Rumi (Faculty of Health Science and Technology, Kawasaki University of Medical Welfare, Okayama, Japan) ,  Gotanda Tatsuhiro (Faculty of Health Science and Technology, Kawasaki University of Medical Welfare, Okayama, Japan) ,  Akagawa Takuya (Department of Radiological Technology, Tokushima Red Cross Hospital, 103, Irinokuchi, Komatsujshima, Tokushima, 773-8502, Japan) ,  Tanki Nobuyoshi (Faculty of Health Sciences, Butsuryo College of Osaka, 3-33, Otorikita-machi Nishi-ku, Sakai-city, Osaka, 593-8328, Japan) ,  Kuwano Tadao (Graduate School of Health Sciences, Okayama University, 2-5-1, Shikata-cyo, Kita-ku, Okayama-city, Okayama, 700-8558, Japan) ,  Noguchi Atsushi (Faculty of Health Sciences, Butsuryo College of Osaka, 3-33, Otorikita-machi Nishi-ku, Sakai-city, Osaka, 593-8328, Japan) ,  Yabunaka Kouichi (Graduate School of Medicine, the University of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyou-Ku, Tokyo, 113-0033, Japan)
資料名： Polish Journal of Medical Physics and Engineering (Web)  (Polish Journal of Medical Physics and Engineering (Web))
巻： 24  号： 2  ページ： 189-193  発行年： 2018年 
JST資料番号： U8119A  ISSN： 1898-0309  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Gafクロミック EBT2の紫外線(UV)光線の強度と密度変化を調べた。以前の研究により,UV-A線は,Gafクロミック EBT2の不均一性誤差を補正するために,X線二重露光技術に対して置換できることが示唆された。本研究では,波長375nmのGafクロミック EBT2UV-A光線の不均一性誤差を補正する活性層を照射するためのUV-A光線の適切な強度を決定することを目的とし,種々の時間でGafchrot EBT2を照射し,得られた密度変化を調べた。Gafクロミック EBT2の不均一性誤差を補正するために,UV-Aランプによる前照射を72cmの距離で30分間行った。最も適切な照射時間を決定するために,375nmのUV-Aを発生させるUV発光ダイオードを用いて,5.3cmの距離で1,2,3,4,5,10,15,20,25,および30分の様々な時間でGafchroot EBT2膜を照射した。関心のある12.7の直径領域を照射領域により設定し,画素値のヒストグラムを作成した。条件オプションを2つの重要な要件に基づいて決定した。1)モードと秒のゼロ値は存在せず,2)モードの1/10値は両方のヒストグラムスリーブを交差する。Gafクロミック EBT2の場合,照射強度は1分間85.43mJ/cm2で,平均±SDの画素値は255.34±213.29であった。4分の照射期間は,上記の2つの条件の境界期間であった。波長375nmのUV光線を用いて,X線曝露の代替としてGafクロミック EBT2を照射すると,4分前照射継続時間(341.74mJ/cm2)は十分に十分である。Copyright 2018 Toshizo Katsuda et al., published by Sciendo Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *紫外線照射 ,  継続時間 ,  不均一性 ,  スリーブ ,  発光ダイオード ,  X線 ,  波長 ,  活性層 ,  ヒストグラム ,  *紫外線 ,  光子ビーム
準シソーラス用語： 画素値 ,  照射時間 ,  UV-A , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 紫外線 ,  不均一性 ,  ガフクロミック膜 ,  放射線測定 ,  コンピュータ断層撮影

分類 (1件)： 食品照射  (FJ03050E)

タイトルに関連する用語 (2件)： 曝露 ,  紫外線照射