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J-GLOBAL ID：201902263190483791   整理番号：19A1916636

電気化学的CO_2還元のための酸化物由来銅触媒上のC-Cカップリングの最適化【JST・京大機械翻訳】

Optimizing C-C Coupling on Oxide-Derived Copper Catalysts for Electrochemical CO₂ Reduction

著者 (14件)： Lum Yanwei (Joint Center for Artificial Photosynthesis, Lawrence Berkeley National Laboratory) ,  Lum Yanwei (Materials Science Division, Lawrence Berkeley National Laboratory) ,  Lum Yanwei (Department of Materials Science and Engineering, University of California) ,  Yue Binbin (Center for High Pressure Science and Technology Advanced Research, People’s Republic of China) ,  Yue Binbin (Advanced Light Source, Lawrence Berkeley National Laboratory) ,  Lobaccaro Peter (Joint Center for Artificial Photosynthesis, Lawrence Berkeley National Laboratory) ,  Lobaccaro Peter (Chemical Sciences Division, Lawrence Berkeley National Laboratory) ,  Lobaccaro Peter (Department of Chemical and Biomolecular Engineering, University of California) ,  Bell Alexis T. (Joint Center for Artificial Photosynthesis, Lawrence Berkeley National Laboratory) ,  Bell Alexis T. (Chemical Sciences Division, Lawrence Berkeley National Laboratory) ,  Bell Alexis T. (Department of Chemical and Biomolecular Engineering, University of California) ,  Ager Joel W. (Joint Center for Artificial Photosynthesis, Lawrence Berkeley National Laboratory) ,  Ager Joel W. (Materials Science Division, Lawrence Berkeley National Laboratory) ,  Ager Joel W. (Department of Materials Science and Engineering, University of California)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121  号： 26  ページ： 14191-14203  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化された金属銅の還元によって調製された銅電極は,予備酸化されていない金属銅よりも,CO_2の電気化学的還元およびC_2およびC_3(C_2+)生成物に対する良好な選択性を示すことが報告されている。ここでは,C_2+生成物への選択性に注目して,CO_2還元の活性と選択性に及ぼす酸化物由来電極触媒の4つの異なる調製の影響の研究を報告する。すべての触媒を,-0.7~-1.0V vs RHEの範囲で,0.1M KHCO_3および0.1M CsHCO_3中でのCO_2還元に対して試験した。最良の酸化物誘導触媒は,CsHCO_3を電解質として用いると,C_2+生成物に対して~70%の選択性を示し,-1.0V vs RHEにおいてC_1生成物に対して~3%の選択性を示した。対照的に,C_2+生成物への選択性は,KHCO_3で試験した同じ触媒に対して~56%に減少した。同一条件下で全ての触媒を研究することにより,生成物選択性に影響する重要因子を識別できた。これらの努力は,酸化物由来層の表面積が選択性に影響する重要なパラメータであることを明らかにした。C_2+生成物への高い選択性は,触媒表面近くで適度に高いpHを達成するために十分高い電流密度で操作することにより,-1V vs RHEの過電圧で達成されるが,CO_2の局所濃度の著しい低下を引き起こさない。最近の理論的研究に基づいて,高pHはC_2+生成物に対するC_1の形成を抑制する。同時に,C_2+生成物の形成には,高い局所的CO_2濃度が必要である。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 電解質 ,  過電圧 ,  電極触媒 ,  *銅 ,  表面積 ,  *酸化物 ,  *還元 ,  カソード還元 ,  *カップリング反応 ,  *最適化 ,  *電気化学 ,  *触媒 ,  *銅触媒
準シソーラス用語： 予備酸化 ,  銅電極 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 不均一系触媒反応  (CB06100E) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電気化学 ,  還元 ,  酸化物 ,  銅触媒 ,  C-Cカップリング ,  最適化