文献
J-GLOBAL ID:201902263479516128   整理番号:19A0548321

強いX線パルスにさらされたArクラスタにおける放射線誘起化学動力学【JST・京大機械翻訳】

Radiation-Induced Chemical Dynamics in Ar Clusters Exposed to Strong X-Ray Pulses
著者 (39件):
資料名:
巻: 120  号: 22  ページ: 223201  発行年: 2018年 
JST資料番号: H0070A  ISSN: 0031-9007  CODEN: PRLTAO  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
電子及びイオン分光法により,X線自由電子レーザ(XFEL)パルスに曝露されたArクラスタにおけるオリゴマ形成の詳細,すなわちX線により誘発された化学動力学を明らかにした。専用の分子動力学シミュレーションツールからの誘導により,van der Waals結合,オリゴマ形成機構,及びクラスタ成分間の電荷移動が,中程度のフルエンスのXFELパルスにより誘起されたイオン化動力学に著しく影響することを見出した。著者らの結果は,XFELパルスが「損傷と破壊」分子集合体だけでなく,それらの分子構造を修飾し変換するためにも使用できることを明確に示した。得られた予測の精度は,単一原子多重光子吸収の下のフルエンス領域におけるXFELパルスフルエンスの推定のために,他の診断ツールではほとんどアクセスできない,それぞれのシミュレーションに関連して,クラスタ分光法を適用することを可能にした。Copyright 2019 The American Physical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
原子・分子のクラスタ 

前のページに戻る