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J-GLOBAL ID：201902263659379614   整理番号：19A2518626

担持放電を用いたDCマグネトロンスパッタリングにより作製したナノ構造チタン薄膜の構造的および電気化学的キャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】

Structural and Electrochemical Characterization of Nanostructured Titanium Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering with Supported Discharge

著者 (3件)： Kavitha A. (Department of Science, Christ College of Science and Management, Malur, Karnataka, India) ,  Gunasekhar K. R. (Department of Instrumentation and Applied Physics, Indian Institute of Science, Bangalore, Karnataka, India) ,  Balakrishnan T. (Department of Physics, Thiagarajar College of Engineering, Madurai, Tamil Nadu, India)
資料名： Iranian Journal of Science and Technology, Transactions A: Science  (Iranian Journal of Science and Technology, Transactions A: Science)
巻： 43  号： 5  ページ： 2665-2671  発行年： 2019年 
JST資料番号： W4502A  ISSN： 1028-6276  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,ナノ構造化チタン(Ti)薄膜を,ステンレス鋼基板上に直流マグネトロンスパッタリング(ダイオードモード)と支持放電(三極モード)により調製した。X線回折パターンは優先配向(002)面を示し,低作動圧力(0.7Pa)で調製した膜に対して六方晶系立方構造を示した。電気抵抗率は15μΩcmであることが分かった。走査電子顕微鏡分析は,三極モードの被覆がDCマグネトロンスパッタリングダイオードモードと比較して大きな結晶粒を有する凝集体を有することを示した。表面トポグラフィーを原子間力顕微鏡で調べた。低い作動圧力(0.7Pa)で被覆されたTi薄膜の電気化学的研究は,より良い耐食性の証拠を提供する。Copyright 2019 Shiraz University Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *キャラクタリゼーション ,  *放電 ,  *電気化学 ,  優先配向 ,  *薄膜 ,  *ナノ構造 ,  原子間力顕微鏡 ,  結晶粒 ,  電気抵抗率 ,  *チタン ,  ステンレス鋼 ,  六方晶系 ,  耐食性
準シソーラス用語： 表面トポグラフィー ,  *DCマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Ti薄膜 ,  支持された放電/トライオード ,  電気的性質 ,  耐食性

分類 (5件)： 酵素生理  (EG03052C) ,  海藻類  (FJ13030N) ,  食品の化学・栄養価  (FJ01020J) ,  植物の生化学  (EH01050J) ,  酵素一般  (EB09010D)

タイトルに関連する用語 (8件)： 担持 ,  放電 ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  ナノ構造 ,  チタン薄膜 ,  電気化学 ,  キャラクタリゼーション