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J-GLOBAL ID：201902264118591004   整理番号：19A0661112

高屈折率ビームペンアレイにより可能になった溶液相光化学ナノパターン形成【JST・京大機械翻訳】

Solution-Phase Photochemical Nanopatterning Enabled by High-Refractive-Index Beam Pen Arrays

著者 (23件)： Xie Zhuang (Department of Chemistry, Northwestern University) ,  Xie Zhuang (International Institute for Nanotechnology, Northwestern University) ,  Gordiichuk Pavlo (Department of Chemistry, Northwestern University) ,  Gordiichuk Pavlo (International Institute for Nanotechnology, Northwestern University) ,  Lin Qing-Yuan (International Institute for Nanotechnology, Northwestern University) ,  Lin Qing-Yuan (Department of Materials Science and Engineering, Northwestern University, Illinois, United States) ,  Meckes Brian (Department of Chemistry, Northwestern University) ,  Meckes Brian (International Institute for Nanotechnology, Northwestern University) ,  Chen Peng-Cheng (International Institute for Nanotechnology, Northwestern University) ,  Chen Peng-Cheng (Department of Materials Science and Engineering, Northwestern University, Illinois, United States) ,  Sun Lin (International Institute for Nanotechnology, Northwestern University) ,  Sun Lin (Department of Materials Science and Engineering, Northwestern University, Illinois, United States) ,  Du Jingshan S. (International Institute for Nanotechnology, Northwestern University) ,  Du Jingshan S. (Department of Materials Science and Engineering, Northwestern University, Illinois, United States) ,  Zhu Jinghan (International Institute for Nanotechnology, Northwestern University) ,  Zhu Jinghan (Department of Materials Science and Engineering, Northwestern University, Illinois, United States) ,  Liu Yuan (Department of Chemistry, Northwestern University) ,  Liu Yuan (International Institute for Nanotechnology, Northwestern University) ,  Dravid Vinayak P. (International Institute for Nanotechnology, Northwestern University) ,  Dravid Vinayak P. (Department of Materials Science and Engineering, Northwestern University, Illinois, United States) ,  Mirkin Chad A. (Department of Chemistry, Northwestern University) ,  Mirkin Chad A. (International Institute for Nanotechnology, Northwestern University) ,  Mirkin Chad A. (Department of Materials Science and Engineering, Northwestern University, Illinois, United States)
資料名： ACS Nano  (ACS Nano)
巻： 11  号： 8  ページ： 8231-8241  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2326A  ISSN： 1936-0851  CODEN： ANCAC3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： サブ波長開口を持つプローブの使用を必要としない高スループット,溶液ベース,走査プローブ光化学ナノパターン化法を報告した。特に,高屈折率高分子材料から作られたピラミッドアレイを構築し,従来の液相ビームペンリソグラフィ実験におけるパターン形成ツールとして研究した。アレイの2つのバージョンを金属被覆または金属フリーのチップで調べた。重要なことに,光はチップのタイプと適切な溶液相(例えば,H2OまたはCH_3OH)の両方を通してチャネル化でき,自己集合単分子層(SAM)被覆Au薄膜基板の局所パターン形成をもたらす溶液中の光反応に影響する基板のサブ波長領域に焦点を合わせた。4500個のピラミッド形プローブとしてのアレイを用いて,SAMの酸化的除去をもたらす数千の局在化フリーラジカル光反応(水溶液中でのリチウムアシルホスフィナート光開始剤の分解)を同時に開始した。この技術は,直径200nm未満の特徴を迅速に発生させることができるので魅力的であり,金属フリーのチップは,マイクロメートルの伝搬長さにわたってナノ開口を持つチップより10倍以上の高い強度を与える。原理的に,このマスクフリー法は,化学,生物学,および材料科学に関連するハイスループット組合せスクリーニング応用において重要である可能性がある多重スケールにわたる広範囲の光化学を実行するための汎用ツールとして利用できる。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 被覆 ,  水溶液 ,  リソグラフィー ,  薄膜 ,  ラジカル ,  *パターン形成 ,  基板 ,  開口 ,  角錐 ,  プローブ ,  光化学反応 ,  スクリーニング ,  酸化
準シソーラス用語： 局在化 ,  *ナノパターン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： ビームペンリソグラフィー ,  光化学 ,  表面パターン形成 ,  溶液相 ,  自己集合単分子層 ,  フリーラジカル

分類 (2件)： 固体プラズマ  (BM02160W) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高屈折率 ,  溶液相 ,  光化学 ,  ナノパターン形成