二層シリカを通してのガス分離,最も薄い可能性のあるシリカ膜【JST・京大機械翻訳】

Yao Bowen; Mandra Salvatore; Mandra Salvatore; Curry John O.; Shaikhutdinov Shamil; Freund Hans-Joachim; Schrier Joshua

文献

J-GLOBAL ID：201902264240219453 整理番号：19A1410265

二層シリカを通してのガス分離,最も薄い可能性のあるシリカ膜【JST・京大機械翻訳】

Gas Separation through Bilayer Silica, the Thinnest Possible Silica Membrane

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巻： 9 号： 49 ページ： 43061-43071 発行年： 2017年12月13日
JST資料番号： W2329A ISSN： 1944-8244 CODEN： AAMICK 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

膜ベースのガス分離プロセスは,エネルギーと環境における重要な課題に取り組むことができるが,多くの応用に対して,バルク膜の透過性と選択性は,経済的な使用には不十分である。理論と実験は,膜としてサブナノメータ細孔を有する二次元材料を用いることにより,透過性と選択性を増加できることを示した。非晶質シリカ二分子層を通してのH_2/CO混合物の選択透過を示す実験に動機付けられて,ここでは,シリカ二分子層を通してのガス分離の理論的研究を行った。密度汎関数理論計算を用いて,ガラス状シリカ二分子層で観測される7,8,9員環と同様に結晶性自立シリカ二分子層(6員環から成る)の幾何構造を得た。これはStone-Wales欠陥と空格子点に起因する。次に,He,Ne,Ar,Kr,H_2,N_2,CO,およびCO_2ガスに対するこれらの種々の細孔型を通してのガス通過に対するポテンシャルエネルギー障壁を計算し,選択的ガス分離に対するそれらの能力を評価するためにデータを用いた。著者らの計算は,ナノメータ厚さより小さい結晶性二分子層シリカが,3He/4He,He/天然ガスおよびH_2/CO分離のための高選択性および高透過性膜材料であることを示した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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膜分離 , 高分子固体のその他の性質

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