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J-GLOBAL ID：201902265079940853   整理番号：19A1889045

熱化学蒸着におけるトリメチルほう素の気相化学【JST・京大機械翻訳】

Gas Phase Chemistry of Trimethylboron in Thermal Chemical Vapor Deposition

著者 (14件)： Imam Mewlude (Department of Physics, Chemistry and Biology, Linkoeping University, Sweden) ,  Imam Mewlude (European Spallation Source ERIC, Sweden) ,  Souqui Laurent (Department of Physics, Chemistry and Biology, Linkoeping University, Sweden) ,  Herritsch Jan (Fachbereich Chemie and Material Sciences Center, Philipps-Universitaet Marburg, Germany) ,  Stegmueller Andreas (Fachbereich Chemie and Material Sciences Center, Philipps-Universitaet Marburg, Germany) ,  Hoeglund Carina (Department of Physics, Chemistry and Biology, Linkoeping University, Sweden) ,  Hoeglund Carina (European Spallation Source ERIC, Sweden) ,  Schmidt Susann (Department of Physics, Chemistry and Biology, Linkoeping University, Sweden) ,  Hall-Wilton Richard (European Spallation Source ERIC, Sweden) ,  Hall-Wilton Richard (Mid-Sweden University, Sweden) ,  Hoegberg Hans (Department of Physics, Chemistry and Biology, Linkoeping University, Sweden) ,  Birch Jens (Department of Physics, Chemistry and Biology, Linkoeping University, Sweden) ,  Tonner Ralf (Fachbereich Chemie and Material Sciences Center, Philipps-Universitaet Marburg, Germany) ,  Pedersen Henrik (Department of Physics, Chemistry and Biology, Linkoeping University, Sweden)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121  号： 47  ページ： 26465-26471  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： トリメチルほう素(TMB)とトリエチルホウ素(TEB)のようなアルキルボランはホウ素含有薄膜の低温化学蒸着(CVD)における有望な代替前駆体である。本研究では,TMBを用いたB-C膜のCVD成長と気相化学機構を解明するための量子化学計算を行った。高密度,非晶質,ホウ素リッチ(B/C=1.5~3)膜を二水素およびアルゴン雰囲気中で1000°Cで堆積させたが,結晶性B_4CおよびB_25C介在物を有する膜は二水素中で1100°Cで堆積した。いくつかの可能な気相CVD反応の時間効率的スクリーニングを可能にするために,量子化学計算のためにスクリプトベースの自動化スキームを実行した。量子化学計算はTMBが主にメタンの単分子α-H脱離により分解され,これは二水素中のメタンの二水素支援脱離により補完されることを示唆した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ホウ素 ,  反応機構 ,  介在物 ,  自動化 ,  非晶質 ,  スクリーニング ,  *気相 ,  低温 ,  薄膜 ,  脱着 ,  アルカン
準シソーラス用語： 単一分子 ,  スクリプト ,  量子化学計算 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 吸着剤  (YB03000W) ,  吸着の電子論  (CB12042Y) ,  分子化合物  (CE02000C) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

物質索引 (2件)： メタン ,  トリメチルほう素

タイトルに関連する用語 (4件)： 熱化学蒸着 ,  トリメチルほう素 ,  気相 ,  化学