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J-GLOBAL ID：201902265547577226   整理番号：19A0621530

応力誘起マイグレーションを用いた厚膜中の人工弱スポットによるアルミニウムマイクロワイヤの作製【JST・京大機械翻訳】

Fabrication of aluminum microwires through artificial weak spots in a thick film using stress-induced migration

著者 (3件)： Lee Hsin-Tzu (Department of Finemechanics, Tohoku University, Aoba 6-6-0, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan) ,  Kimura Yasuhiro (Department of Finemechanics, Tohoku University, Aoba 6-6-0, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan) ,  Saka Masumi (Department of Finemechanics, Tohoku University, Aoba 6-6-0, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan)
資料名： AIMS Materials Science (Web)  (AIMS Materials Science (Web))
巻： 5  号： 4  ページ： 591-602  発行年： 2018年 
JST資料番号： U7114A  ISSN： 2372-0484  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 技術の最近の進歩により,ミクロ/ナノ材料はバルク材料と比較して優れた特性のために大きな注目を集めている。応力誘起マイグレーション(SM)は,単純な加工,大量生産,およびアルミニウムのような反応性材料の製造の可能性の利点のために,ミクロ/ナノ材料を製造するために使用されてきた。応力誘起マイグレーションは,圧縮応力勾配により駆動される原子拡散の物理現象である。不動態化層,金属膜,基板を含む多層構造を加熱すると,金属膜駆動原子における静水圧熱応力勾配が不動態化層の弱いスポットを通して移動し放電する。その結果,多数のナノホイスカとヒロックがそれらの位置で自発的に成長する。しかし,SM製造には2つの問題が存在する。最初に,成長材料の位置,サイズ,および形状は,弱いスポットのランダム性のためにランダムである。第二に,多数の原子の移動が必要であるため,マイクロワイヤの作製は困難である。本研究では,SMを用いて厚いアルミニウム膜上に意図した位置で1mm径のアルミニウムマイクロワイヤを成長させることに成功した。厚いアルミニウム膜を用いて,マイクロワイヤを形成するために十分な数の原子を提供した。さらに,マイクロワイヤの位置を人工の弱いスポットを導入することによって制御した。マイクロワイヤの意図的成長に関連するパラメータを調べ,アルミニウムマイクロワイヤを成長させるための最適条件を示した。Copyright 2019 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 不動態化 ,  最適条件 ,  金属薄膜 ,  *厚膜 ,  多層構造 ,  *アルミニウム ,  大量生産 ,  反応性 ,  静水圧 ,  ナノ材料 ,  ナノホイスカ ,  原子拡散 ,  応力勾配 ,  *マイクロワイヤ ,  改変
準シソーラス用語： ヒロック , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： マイクロワイヤ ,  ストレス誘導移動 ,  厚膜 ,  人工弱点

分類 (2件)： 金属の結晶成長  (BK13030M) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (9件)： 応力 ,  誘起 ,  マイグレーション ,  厚膜 ,  人工 ,  スポット ,  アルミニウム ,  マイクロワイヤ ,  作製