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J-GLOBAL ID：201902265681290773   整理番号：19A2202632

ゾル-ゲル法による強誘電体Bi₂SiO₅微粒子の合成とその焼結

著者 (4件)： 坂本健悟 (慶応大) ,  萩原学 (慶応大) ,  藤原忍 (慶応大) ,  谷口博基 (名古屋大)
資料名： 日本ゾル-ゲル学会討論会講演予稿集
巻： 17th  ページ： 58  発行年： 2019年 
JST資料番号： F2071A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ゾル-ゲル法 ,  *強誘電体 ,  ケイ素酸素酸塩 ,  ビスマス化合物 ,  焼結 ,  相対密度 ,  一軸圧縮試験 ,  常誘電体 ,  相転移 ,  *BSO【ケイ酸ビスマス】 ,  焼結助剤

分類 (2件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (4件)： ゾル-ゲル法 ,  強誘電体 ,  微粒子 ,  焼結