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J-GLOBAL ID:201902265950957132   整理番号:19A2642190

非晶質FeNiPGd薄膜の電気めっきと磁気特性に及ぼす印加磁場の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of applied magnetic field on the electroplating and magnetic properties of amorphous FeNiPGd thin film
著者 (9件):
資料名:
巻: 495  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: H0644A  ISSN: 0304-8853  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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一軸磁気異方性を多元素軟磁性非晶質FeNiPGd薄膜に誘起し,電極面に平行に外部磁場を印加した電気めっきにより作製した。磁場の適用後,FeNiPGd層の表面形態は改善された。結晶粒は微細化され,表面上に生成した孔の数は著しく減少した。外部磁場の導入は堆積速度と動的透磁率を著しく改善できる。そして,印加磁場が堆積過程の間に40mTであるとき,カットオフ周波数は500MHzを達成することができた。特に,膜の面内異方性磁場は面積積分法により約116Oeと計算され,一方,磁場は10mTであり,これは二元FeNi材料のそれよりも明らかに高い。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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金属結晶の磁性  ,  金属薄膜 
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