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J-GLOBAL ID：201902266666234147   整理番号：19A0395363

ナノ構造界面によるフォノン輸送の究極のインピーダンスに向けて【JST・京大機械翻訳】

Towards ultimate impedance of phonon transport by nanostructure interface

著者 (2件)： Ohnishi Masato (Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo, Hongo 7-3-1, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8656, Japan) ,  Shiomi Junichiro (Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo, Hongo 7-3-1, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8656, Japan)
資料名： APL Materials (Web)  (APL Materials (Web))
巻： 7  号： 1  ページ： 013102-013102-11  発行年： 2019年 
JST資料番号： U7122A  ISSN： 2166-532X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱伝導率の界面誘起還元は工学と科学の観点から大きな興味を引き付けている。ナノ構造はフォノン散乱を増強できるが,フォノン輸送の多重スケールの性質(1nmから10μmの範囲の長さスケール)は熱伝導率の正確な同調を阻害する。ここでは,ナノ構造とそれらの界面によるフォノン輸送の最終インピーダンスに向けた最近の進歩を紹介した。境界散乱の最終的な利用により極端に低い熱伝導率を実現する進歩をレビューすることにより始めた。単結晶粒を持つ多結晶構造のフォノン緩和時間は最小シナリオに達した。次に,情報科学と材料科学を結合することにより,界面ナノ構造のさらなる設計可能性を得るために新たに開発したアプローチを強調した。最適化技術は,非周期的ナノ構造が熱伝導率を効果的に低減し,その結果熱電性能を改善することを明らかにした。最後に,究極の低熱伝導率に向けての将来展望を考察する過程で,ソフト界面を用いたフォノン歪工学を実現するための最近の試みを紹介した。炭素ナノ材料における誘導歪は,熱輸送を著しく変えることができるコヒーレントフォノンのゾーン折畳みをもたらすことができる。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 結晶粒 ,  *フォノン ,  材料科学 ,  *界面 ,  *インピーダンス ,  多結晶 ,  緩和時間 ,  折畳み ,  熱伝導率 ,  散乱 ,  *ナノ構造 ,  熱輸送 ,  フォノン散乱 ,  *フォノン輸送
準シソーラス用語： マルチスケール , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 熱電デバイス  (NC03090J)

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノ構造 ,  界面 ,  フォノン輸送 ,  インピーダンス