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J-GLOBAL ID：201902267197056423   整理番号：19A2208435

正浸透によるヒ素除去における高性能を達成するpH応答性超分子延伸溶質【JST・京大機械翻訳】

A pH-responsive supramolecular draw solute that achieves high-performance in arsenic removal via forward osmosis

著者 (5件)： Wu Yanhuang (College of Environment and Resources, Fuzhou University, No.2 Xueyuan Road, Fujian, 350116, PR China) ,  Liu Yan (College of Chemistry, Chemical Engineering and Materials Science, Soochow University, No.199 Renai Road, Suzhou Industrial Park, Suzhou, 215123, PR China) ,  Chen Rongzhen (College of Environment and Resources, Fuzhou University, No.2 Xueyuan Road, Fujian, 350116, PR China) ,  Zhang Wen-Hua (College of Chemistry, Chemical Engineering and Materials Science, Soochow University, No.199 Renai Road, Suzhou Industrial Park, Suzhou, 215123, PR China) ,  Ge Qingchun (College of Environment and Resources, Fuzhou University, No.2 Xueyuan Road, Fujian, 350116, PR China)
資料名： Water Research  (Water Research)
巻： 165  ページ： Null  発行年： 2019年 
JST資料番号： B0760A  ISSN： 0043-1354  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： pH応答性の電荷スイッチ可能なピペラジン誘導体,1,4-ビス(3-プロパン-スルホン酸ナトリウム)-ピペラジンジエタンスルホン酸ジナトリウム-硫酸塩(4)を段階的合成により設計し,水からのヒ素(As~III,As~V)を順浸透(FO)により除去するための引抜溶質として提案した。多重スルホン基を有すると,4は高浸透圧を発生し,希釈濃度(0.24M)で58.4LMHの高い水フラックスを生成し,類似の実験条件下で水移動速度における既存の引抜溶質の大部分を上回った。0.24Mでの化合物4は,100%As~V除去で52.9LMHの水フラックスを,50ppmのAs~VまたはAs~IIIを対応供給として,96.0%As~III除去を伴う57.8LMHをもたらし,ヒ素除去と同時水回収効率において最良の性能を示した。注目すべきことに,水における高分子配置であり,4はFOプロセスにおいて無視できる溶質損失を有していた。4は酸性化による溶液からの沈殿によるFOの再利用のために容易に再生できる。イオン基の存在量と超分子配置と結合したpH応答特性は,FO廃水処理のための理想的な引抜溶質を4にする。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *超分子 ,  硫酸塩 ,  *浸透 ,  *延伸 ,  電荷 ,  希釈 ,  高分子 ,  多重化 ,  廃水処理 ,  *溶質 ,  スイッチ ,  再利用
準シソーラス用語： 水フラックス ,  *ヒ素除去 ,  *正浸透 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 正浸透 ,  延伸溶質 ,  水処理 ,  ヒ素除去

分類 (1件)： 重金属とその化合物一般  (SB05021R)

タイトルに関連する用語 (7件)： 正浸透 ,  ヒ素除去 ,  高性能 ,  pH応答性 ,  超分子 ,  延伸 ,  溶質