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J-GLOBAL ID：201902267938456114   整理番号：19A0658952

硫化アルミニウムの原子層堆積:リチウムイオン電池における成長機構と電気化学的評価【JST・京大機械翻訳】

Atomic Layer Deposition of Aluminum Sulfide: Growth Mechanism and Electrochemical Evaluation in Lithium-Ion Batteries

著者 (4件)： Meng Xiangbo (Department of Mechanical Engineering, University of Arkansas, Arkansas, United States) ,  Cao Yanqiang (Energy Systems, Argonne National Laboratory, Illinois, United States) ,  Libera Joseph A. (Energy Systems, Argonne National Laboratory, Illinois, United States) ,  Elam Jeffrey W. (Energy Systems, Argonne National Laboratory, Illinois, United States)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 29  号： 21  ページ： 9043-9052  発行年： 2017年 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,トリス-(ジメチルアミド)アルミニウムと硫化水素を用いた原子層堆積(ALD)による硫化アルミニウム(AlS_x)薄膜の合成について述べた。石英結晶微量天秤,四重極質量分析,Fourier変換赤外分光法を含むALD AlS_x成長機構を調べるために,一連のin situ測定技術を用いた。種々のex situ特性化技術を用いて,得られたAlS_x膜の成長特性,形態,元素組成,および結晶性を測定した。本研究により,AlS_x成長は温度範囲100~250°Cで自己制限され,サイクル当たりの成長は100°Cでの~0.45Å/サイクルから250°Cでの~0.1Å/サイクルへの温度上昇と共に直線的に減少することを明らかにした。この温度範囲では,AlS_x膜は非晶質であった。リチウムイオン電池(LIB)用の潜在的アノード材料としてALD AlS_xを評価するために電気化学的試験を行った。ALD AlS_xは,0.6~3.5Vの電圧窓において,100mA/gの電流密度において,640mAh/gの持続可能な放電容量で,60回の充放電サイクルにわたって信頼できるサイクル性を示した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *硫化 ,  キャラクタリゼーション ,  硫化水素 ,  *電気化学 ,  充放電サイクル ,  薄膜 ,  電圧 ,  非晶質 ,  薄膜成長 ,  *アルミニウム ,  電流密度 ,  *リチウムイオン電池
準シソーラス用語： 放電容量 ,  温度範囲 ,  元素組成 ,  *成長メカニズム , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 硫化 ,  アルミニウム ,  原子層堆積 ,  リチウムイオン電池 ,  成長 ,  電気化学 ,  評価