抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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コヒーレントFourier散乱測定(CFS)はナノ粒子検出に特に適した走査光学技術である。ウエハ表面の検査は,半導体チップの生産における高収率のための重要なボトルネックの一つである。理想的には,検査システムは,高速,高感度,および過剰の照明光パワーを有するサンプルを熱的に損傷しなければならないようにする必要がある。検出できる散乱体の最小サイズに起因するナノ粒子の検出感度は,雑音により厳しく制限される。散乱計の光学的読み出しは,表面から散乱光を収集する双セル(分割光検出器)からなり,一方,後者は横方向(2D走査)で走査される。二セルの二つの半分を積分し減算することによる差電圧信号を試料表面の横方向走査位置の関数として記録した。二つのセルは二つの機能を持っている。第一に,高速な方法で信号を取得することができ,第二に,暗視野に基づく粒子検出システムにおいて通常大きな問題である基板スプリアス反射による効果を排除することができる。本論文では,ヘテロダイン技術を検出システムに組み込むことにより,元のCFS検出システムの拡張を示した。変調と参照信号の両方に対する適切な周波数と波形を決定するために使用される比較信号対雑音比(SNR)利得研究と同様に,新しい検出器システムの実装を示した。80nmの直径をもつポリスチレンナノ粒子の検出を実証した。これはシリコンウエハの上部に堆積し,低い照射光パワーで高いSNRをもつ。波長405nmのダイオードレーザを用いて実験を行った。この特殊な粒子サイズにおいて,CFSの元の検出システムと比較して約45dBのSNRの改善を観測した。提案したヘテロダインCFS技術は,既にシリコンウエハ上のポリスチレンナノ粒子の検出に優れた性能を示すが,将来の展望と結論において議論されるように,より小さい粒子に対する感度を改善する余地がある。COPYRIGHT SPIE. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】