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J-GLOBAL ID:201902268773298946   整理番号:19A0096629

RubbingMura発生メカニズムと改善研究【JST・京大機械翻訳】

Principle and improvement research of rubbing Mura
著者 (6件):
資料名:
巻: 33  号:ページ: 469-474  発行年: 2018年 
JST資料番号: W1519A  ISSN: 1007-2780  CODEN: YYXIFY  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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RubbingMuraは、接触式摩擦プロセスによるTFTLCD製品製造によくある頑固な欠陥であり、特にHADS製品に不良な発生率が高い。本論文では、RubbingMuraの原因及びメカニズムを分析し、この不良がTFT基板上のソース線(SourceData,SD)付近のRubbing弱領域の漏れ光によることを発見した。Rubbing強度(Nip値),Rubbing布型,Rubbing布寿命,黒マトリックス(BlackMatrix,BM)の幅とSD薄化がHADS製品のRubbingMuraに与える影響を研究した。最適な技術条件を選び、RubbingMuraの不良発生率は2.4%から0%に低下し、改善効果は明らかである。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】
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