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J-GLOBAL ID：201902270203844296   整理番号：19A0859176

SiCl_4化学蒸着による高純度溶融シリカガラス合成中のSiO_2堆積のモデリングと解析【JST・京大機械翻訳】

Modeling and analysis of SiO₂ deposition during high-purity fused silica glass synthesis by SiCl₄ chemical vapor deposition

著者 (1件)： Huang Yaosong (College of Energy, Soochow University, Suzhou, 215006, PR China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 45  号： 8  ページ： 10740-10745  発行年： 2019年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学蒸着(CVD)により作製された大サイズで高純度の溶融石英ガラスは多くの先進光学系に広く適用されている。堆積過程は溶融石英ガラス合成時に重要である。本研究では,基板におけるSiO_2堆積をモデル化し,解析した。最初に,数値シミュレーションを計算流体力学法で行い,火炎の特徴を予測した。ガス温度と速度は実験データと良く一致した。次に,ガス温度と濃度の予測分布を,二次元煤動的モデルへの入力パラメータとして用いた。基板における粒子特性と粒子堆積を解析した。粒子数密度は最初に増加し,軸方向と半径方向に沿って火炎中で減少することが分かった。粒子の予測平均直径は基板表面付近で50nmより小さい。SiO_2堆積の機構は基板表面に沿って異なる。基板の中心領域では,粒子堆積が支配的であるが,外部領域では表面化学蒸着がより重要である。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 半径方向 ,  予測 ,  *化学蒸着 ,  *ガラス ,  軸方向 ,  基板 ,  *モデリング ,  煤 ,  シミュレーション ,  *石英ガラス ,  二次元 ,  ダイナミックモデル
準シソーラス用語： 基板表面 ,  数値シミュレーション ,  *一酸化ケイ素 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 石英ガラス ,  化学蒸着 ,  粒子 ,  火炎 ,  シミュレーション ,  モデリング

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 化学蒸着 ,  高純度 ,  溶融シリカ ,  ガラス ,  堆積 ,  モデリング ,  解析