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J-GLOBAL ID：201902270590403325   整理番号：19A2111154

パルスリングダウン分光法を用いた永久磁石ベースのヘリコンイオン源(Helen)における原子状水素アニオン密度の定量化【JST・京大機械翻訳】

Quantification of atomic hydrogen anion density in a permanent magnet based helicon ion source (HELEN) by using pulsed ring down spectroscopy

著者 (6件)： Mukhopadhyay D. (Institute for Plasma Research, Bhat, Gandhinagar 382428, Gujarat, India) ,  Pandey A. (Institute for Plasma Research, Bhat, Gandhinagar 382428, Gujarat, India) ,  Bandyopadhyay M. (Institute for Plasma Research, Bhat, Gandhinagar 382428, Gujarat, India) ,  Tyagi H. (ITER-India, Institute for Plasma Research, Bhat, Gandhinagar 382428, Gujarat, India) ,  Yadav R. (ITER-India, Institute for Plasma Research, Bhat, Gandhinagar 382428, Gujarat, India) ,  Chakraborty A. (Institute for Plasma Research, Bhat, Gandhinagar 382428, Gujarat, India)
資料名： Review of Scientific Instruments  (Review of Scientific Instruments)
巻： 90  号： 8  ページ： 083103-083103-10  発行年： 2019年 
JST資料番号： D0517A  ISSN： 0034-6748  CODEN： RSINAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,永久磁石ベースのヘリコンプラズマ源(HELEN)を負イオン源として特性化した。空洞リングダウン分光法(CRDS)に基づく非侵襲的診断技術を開発し,HELENにおける線積分負水素イオン(H-)密度を測定した。本論文では,負の水素イオン密度が異なる磁場,圧力およびRF(13.56MHz)パワー配置に対して測定される実験結果について議論した。高出力範囲(800~850W)において,線源は約10~18m~3の背景プラズマ密度と~2eVの電子温度をもつヘリコン波加熱モードで動作することを観測した。負の水素イオン密度をCRDS法と発光分光法により測定した。測定された負イオン密度は,標準的な磁気フィルタまたは下流領域におけるセシウム播種を使用しなくても,体積モード動作条件下で~10~16m-3の範囲にある。負イオン密度の生成に及ぼす圧力変動(4×10~3mbarから4×10~2mbarまでの圧力範囲)の影響は,特定の軸方向磁場配置(55G)と8×10~3mbar圧力で顕著ではなく,約34%のヒークが観測された。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン密度 ,  線源 ,  *アニオン ,  セシウム ,  *イオン源 ,  陽子 ,  磁場 ,  負イオン源 ,  *ヘリコン ,  発光分光法 ,  磁気フィルタ ,  キャラクタリゼーション ,  電子温度 ,  プラズマ密度 ,  *永久磁石

分類 (1件)： 電子源,イオン源  (BD02020U)

タイトルに関連する用語 (8件)： 分光法 ,  永久磁石 ,  ヘリコン ,  イオン源 ,  原子状水素 ,  アニオン ,  密度 ,  定量化