文献

J-GLOBAL ID：201902270685093179   整理番号：19A0254377

ヘテロダイン検出振動和周波数発生分光法により明らかにされた荷電シリカ/水性界面における最上部水構造【JST・京大機械翻訳】

The Topmost Water Structure at a Charged Silica/Aqueous Interface Revealed by Heterodyne-Detected Vibrational Sum Frequency Generation Spectroscopy

著者 (6件)： Urashima Shu-hei (Molecular Spectroscopy Laboratory, RIKEN, Saitama, Japan) ,  Myalitsin Anton (Molecular Spectroscopy Laboratory, RIKEN, Saitama, Japan) ,  Nihonyanagi Satoshi (Molecular Spectroscopy Laboratory, RIKEN, Saitama, Japan) ,  Nihonyanagi Satoshi (Ultrafast Spectroscopy Research Team, RIKEN Center for Advanced Photonics (RAP), Saitama, Japan) ,  Tahara Tahei (Molecular Spectroscopy Laboratory, RIKEN, Saitama, Japan) ,  Tahara Tahei (Ultrafast Spectroscopy Research Team, RIKEN Center for Advanced Photonics (RAP), Saitama, Japan)
資料名： Journal of Physical Chemistry Letters  (Journal of Physical Chemistry Letters)
巻： 9  号： 14  ページ： 4109-4114  発行年： 2018年 
JST資料番号： W3687A  ISSN： 1948-7185  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 界面選択的非線形分光法における最近の著しい進歩にもかかわらず,荷電シリカ表面における最上部水構造はまだ明確に理解されていない。これは,荷電界面に対して,最上層の界面分子だけでなく,電気二重層中の多数の分子も,二次非線形分光法によってさえも探査されるからである。本研究では,ヘテロダイン検出振動和周波数発生分光法を用いてpH12で負に帯電したシリカ/水界面での水構造を研究し,最上部水のスペクトル成分がImχ~(2)スペクトルのイオン強度依存性を調べることにより抽出できることを示した。得られたImχ(2)スペクトルは,最上層における支配的な水種が,1つのOH基を有するシリカ表面において負に帯電したシランラートに水素結合していることを示した。また,1つのOH基を用いて,シリカ表面におけるシロキサン架橋または残りのシラノールの酸素原子と弱く相互作用する少量の水種が存在した。Imχ(2)スペクトルのイオン強度依存性は,最上層のこの水構造が0.01~2Mの広いイオン強度範囲で変化しないことを示した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン強度 ,  *二酸化ケイ素 ,  シラン ,  水素結合 ,  *スペクトロスコピー ,  *和周波数発生 ,  *界面 ,  イオン ,  スペクトル ,  シロキサン ,  *電荷 ,  シラノール ,  相互作用
準シソーラス用語： *水構造 ,  *ヘテロダイン検出 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 液-気界面  (CB12020U) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  非線形光学  (BD05000T)

タイトルに関連する用語 (7件)： ヘテロダイン検出 ,  和周波数発生 ,  分光法 ,  荷電 ,  シリカ ,  界面 ,  水構造