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J-GLOBAL ID：201902270818750232   整理番号：19A0981256

Al_2O_3:Cr_2O_3薄膜の光学特性に及ぼすスパッタリングパワーと基板温度の影響【JST・京大機械翻訳】

Effects of Sputtering Power and Substrate Temperature on the Optical Properties of Al₂O₃:Cr₂O₃ Thin Films

著者 (3件)： Ponmudi S. (Department of Physics, AlagappaChettiar College of Engineering and Technology,Karaikudi 630003, India) ,  Sivakumar R. (Department of Physics, Alagappa University, Karaikudi 630003, India) ,  Sanjeeviraja C. (Department of Physics, AlagappaChettiar College of Engineering and Technology,Karaikudi 630003, India)
資料名： Materials Today: Proceedings  (Materials Today: Proceedings)
巻： 9  号： P2  ページ： 193-198  発行年： 2019年 
JST資料番号： W3531A  ISSN： 2214-7853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,高周波(RF)マグネトロンスパッタリング法によりガラス基板上に堆積したAl_2O_3:Cr_2O_3薄膜の光学特性におけるRFスパッタリングパワーと基板温度誘起変化について報告した。膜は100と150WのRFパワーと室温と200°Cの基板温度で堆積した。膜の光学特性をUV-Vis-NIR分光光度計により特性化した。作製した膜の透過率はRFパワーと基板温度の増加と共に減少することを観測した。光透過率データから,蒸着膜の吸収係数,屈折率,消衰係数,誘電率(実部及び虚部)及び光学伝導率のような種々の光学パラメータを計算し,RFパワー及び基板温度によるそれらの変化を論じた。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 吸収係数 ,  *スパッタリング ,  透過率 ,  *光学的性質 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *薄膜 ,  キャラクタリゼーション ,  *基板温度 ,  蒸着膜 ,  誘電率 ,  分光光度計 ,  RFスパッタリング ,  屈折率
準シソーラス用語： 消衰係数 ,  光透過率 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： 金属酸化物 ,  薄膜 ,  酸化アルミニウム ,  酸化クロム ,  スパッタリングパワー ,  基板温度 ,  光学的性質

分類 (1件)： 機械的性質  (WB02030U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 薄膜 ,  光学特性 ,  スパッタリング ,  パワー ,  基板温度