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J-GLOBAL ID：201902271432594784   整理番号：19A1196128

ガスクロマトグラフ用のシリコンベースマイクロチャネルの開発【JST・京大機械翻訳】

Development of Silicon Based Microchannel for Gas Chromatograph Column

著者 (6件)： Saxena Renuka (Solid State Physics Lab, Timarpur, Delhi, India) ,  Lamba S. S. (Solid State Physics Lab, Timarpur, Delhi, India) ,  Gond Vinita (Solid State Physics Lab, Timarpur, Delhi, India) ,  Islam M. (Solid State Physics Lab, Timarpur, Delhi, India) ,  Kumar Jitendra (Solid State Physics Lab, Timarpur, Delhi, India) ,  Jain Kapil Kumar (Solid State Physics Lab, Timarpur, Delhi, India)
資料名： Springer Proceedings in Physics  (Springer Proceedings in Physics)
巻： 215  ページ： 927-930  発行年： 2019年 
JST資料番号： W5066A  ISSN： 0930-8989  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は,2m×200μ×115μ(長さ×幅×深さ)の寸法を有する蛇行柱を組み込んだMEMSベースのマイクロGCシステムを開発した。このチャネルを,湿式エッチングを用いて寸法28×28mm2のシリコン基板にエッチングした。このデバイスはパイレックスガラスウエハを用いた陽極接合技術によりシールされている。この製造法は低コスト大量生産の可能性を高める。Copyright 2019 Springer Nature Switzerland AG Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ウェットエッチング ,  *ガスクロマトグラフ ,  *マイクロチャネル ,  蛇行 ,  *チャネル ,  大量生産 ,  *ケイ素 ,  MEMS ,  密封装置
準シソーラス用語： 陽極接合 ,  パイレックスガラス ,  シリコンウエハ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： ガスクロマトグラフ ,  開発