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J-GLOBAL ID：201902271495729752   整理番号：19A0659580

第5族金属原子とエタンとの反応により生成したCH_3CH_2-MH,(CH_2)_2-MH_2,CH_2=CH-MH_3およびCH_3-C≡MH_3-の観測とキャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】

Observation and Characterization of CH₃CH₂-MH, (CH₂)₂-MH₂, CH₂=CH-MH₃, and CH₃-C≡MH₃^- Produced by Reactions of Group 5 Metal Atoms with Ethane

著者 (2件)： Cho Han-Gook (Department of Chemistry, Incheon National University, South Korea) ,  Andrews Lester (Department of Chemistry, University of Virginia, Virginia, United States)
資料名： Journal of Physical Chemistry A  (Journal of Physical Chemistry A)
巻： 121  号： 36  ページ： 6766-6777  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0334B  ISSN： 1089-5639  CODEN： JPCAFH  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レーザアブレーショングループ5金属原子とエタンとの反応における一次生成物をアルゴンマトリックスIRスペクトルにおいて同定し,密度汎関数理論計算により特性化した。第二及び第三列遷移金属Nb及びTaは挿入,金属シクロプロパン,ビニルトリヒドリド及びアニオン性エチリジン錯体(CH_3CH_2-MH,(CH_2)_2-MH_2,CH_2=CH-MH_3及びCH_3C≡MH_3)を生成し,一方,第一列遷移金属Vは挿入及び金属シクロプロパン生成物のみを生成した。エネルギー的に高いエチリデンと中性のエチリジン(CH_3CH=MH_2とCH_3C[数式:原文を参照]MH_3)は検出されなかった。独特のアニオン性エチリジンは,NbおよびTa系において最も安定なアニオン種である。金属中心からC-Cπ*軌道への明らかな逆供与は,6族金属類似体におけるよりも強いが,対応する4族金属錯体におけるよりも弱い。NbとTaのエチリジン陰イオンのC-M結合は真の三重結合である。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： タンタル ,  ニオブ ,  錯体 ,  第4族元素 ,  アニオン ,  *キャラクタリゼーション ,  赤外スペクトル ,  三重結合 ,  シクロアルカン ,  アルカン
準シソーラス用語： 逆供与 ,  中性 ,  エチリデン ,  エチリジン ,  密度汎関数計算 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 第4族,第5族元素の錯体  (CE01070U) ,  物理化学一般その他  (CB01030T) ,  分子の電子構造  (BH05010Q)

物質索引 (2件)： シクロプロパン ,  エタン

タイトルに関連する用語 (5件)： 金属原子 ,  エタン ,  MH ,  観測 ,  キャラクタリゼーション