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J-GLOBAL ID：201902272472904523   整理番号：19A1663915

プラズマ蒸着高分子膜コーティングにおける内部応力【JST・京大機械翻訳】

Internal Stresses in Plasma Deposited Polymer Film Coatings

著者 (8件)： Danilaev M. P. (Kazan National Research Technical University, Kazan, Russia) ,  Bogoslov E. A. (Kazan National Research Technical University, Kazan, Russia) ,  Polsky Yu. E. (Kazan National Research Technical University, Kazan, Russia) ,  Yanilkin I. V. (Kazan Federal University, Kazan, Russia) ,  Vakhitov I. R. (Kazan Federal University, Kazan, Russia) ,  Gumarov A. I. (Kazan Federal University, Kazan, Russia) ,  Tagirov L. R. (Kazan Federal University, Kazan, Russia) ,  Tagirov L. R. (Institute for Applied Research, Tatarstan Academy of Sciences, Kazan, Russia)
資料名： Inorganic Materials: Applied Research  (Inorganic Materials: Applied Research)
巻： 10  号： 3  ページ： 556-559  発行年： 2019年 
JST資料番号： W4443A  ISSN： 2075-1133  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガス放電プラズマ中のガラス基板上に堆積した高分子膜の内部応力を測定する技術を開発した。この方法を用いて,ポリメタクリル酸メチルとポリスチレンの薄膜における内部応力の蒸着時間と大気圧における障壁放電の電流密度に対する依存性を調べた。高い重合効率を有する単量体から薄いポリマーコーティングを形成するとき,内部応力の平均値は,大気圧でのバリア放電プラズマにおける低い重合効率を有するモノマーから得られたコーティングよりも高いことが分かった。これは,プラズマからの紫外線の作用下での最初のタイプの膜における架橋の比数の増加によって説明できる。スチレンからの高分子膜被覆の準最適堆積時間を見出し,その中で,内部応力の値は,多くの実用的応用に対して許容できる膜厚で最小であることが分かった。Copyright 2019 Pleiades Publishing, Ltd. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 薄膜成長 ,  *内部応力 ,  *高分子膜 ,  *被覆 ,  *プラズマCVD ,  気圧 ,  単量体 ,  無声放電 ,  薄膜 ,  *蒸着 ,  紫外線 ,  ポリスチレン ,  *プラズマ ,  ポリメタクリル酸メチル ,  芳香族炭化水素 ,  ビニル化合物
準シソーラス用語： 放電プラズマ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： 高分子膜 ,  バリア放電プラズマ ,  高分子膜における内部応力

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

物質索引 (1件)： スチレン

タイトルに関連する用語 (4件)： プラズマ蒸着 ,  高分子膜 ,  コーティング ,  内部応力