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J-GLOBAL ID：201902272861909407   整理番号：19A0178688

α-四級炭素中心を持つキラルなジロジウム(II)ビスカルボキシラート配位子のためのビナフチルに基づく足場【JST・京大機械翻訳】

A Binaphthyl-Based Scaffold for a Chiral Dirhodium(II) Biscarboxylate Ligand with α-Quaternary Carbon Centers

著者 (3件)： Chen Po-An (Department of Chemistry, University of Houston, Texas, United States) ,  Setthakarn Krit (Department of Chemistry, University of Houston, Texas, United States) ,  May Jeremy A. (Department of Chemistry, University of Houston, Texas, United States)
資料名： ACS Catalysis  (ACS Catalysis)
巻： 7  号： 9  ページ： 6155-6161  発行年： 2017年 
JST資料番号： W5035A  ISSN： 2155-5435  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： BINOLから誘導されたビスカルボキシラート配位子からキラルなジロジウム-(II)パドル錯体を合成し,得られた錯体をエナンチオ選択的カルベン/アルキンカスケード反応に用いた。配位子の設計は,高レベルの触媒活性を保証するために,α-ジメチル置換カルボン酸塩および二座配位子の必要条件によって誘導された。以前に明らかにされたキラル錯体はこれらの特徴を欠き,低い生成物収率をもたらす。この設計は,カスケード反応,Rh_2(esp)_2に対する異常に効果的なアキラル触媒の収率を成功裏に複製または超え,それはしばしば独特の反応性を示した。アルデヒド誘導ヒドラゾン基質(29~96%ee)に対して有望なエナンチオ選択性が観察され,新しい足場が顕著な可能性を有することを示した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： カルベン ,  反応性 ,  *錯体 ,  触媒 ,  不斉配位子 ,  基質 ,  必要条件 ,  触媒活性
準シソーラス用語： エナンチオ選択性 ,  アキラル ,  キラル錯体 ,  二座配位子 ,  カスケード反応 ,  *カルボキシラート配位子 ,  *キラリティ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： エナンチオ選択的触媒 ,  ロジウム(II)カルボキシラート ,  カルベン ,  カスケード反応 ,  BINOL誘導体 ,  キラル配位子

分類 (2件)： 白金族元素の錯体  (CE01100E) ,  貴金属触媒  (CB06122I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 炭素 ,  キラル ,  ビス ,  カルボキシラート配位子 ,  足場