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J-GLOBAL ID：201902274405350451   整理番号：19A1111389

広帯域広角度誘電体装荷RCS低減構造【JST・京大機械翻訳】

Broadband and Broad-Angle Dielectric-Loaded RCS Reduction Structures

著者 (4件)： Hou Yuan-Chang (Department of Electrical Engineering, National Taiwan University of Science and Technology, Taipei, Taiwan) ,  Liao Wen-Jiao (Department of Electrical Engineering, National Taiwan University of Science and Technology, Taipei, Taiwan) ,  Ke Jing-Feng (Department of Electrical Engineering, National Taiwan University of Science and Technology, Taipei, Taiwan) ,  Zhang Zhi-Chao (Department of Electrical Engineering, National Taiwan University of Science and Technology, Taipei, Taiwan)
資料名： IEEE Transactions on Antennas and Propagation  (IEEE Transactions on Antennas and Propagation)
巻： 67  号： 5  ページ： 3334-3345  発行年： 2019年 
JST資料番号： C0218A  ISSN： 0018-926X  CODEN： IETPAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文は,新しい広帯域広角レーダ断面積抑制設計を提案した。平面構造は二つの金属と二つの誘電体層から成る。後方散乱低減に使用される原理機構は位相相殺であり,それは自然界で広帯域技術ではない。それにもかかわらず,適切な厚さの誘電体スラブと金属層の間の電磁特性を負荷することによって,3つの隣接位相相殺周波数を,通常の入射に対して20dBの低減の約2:1の帯域幅比を合成するために作り出すことができた。斜め入射に関しては,ランダムパッチアプローチを金属層に適用した。周期構造を避けることにより,強い後方散乱ピークの可能性が減少した。厳密なパラメトリック研究とプロトタイプ測定を行い,設計の性能を解析し検証した。広帯域の広角後方散乱抑制特徴の上で,提案した構造の魅力的な特性は,平面構成,低い高さ,製作の容易さ,低コスト,およびステルス構造を含んでおり,それらはステルスプラットフォームのために溶接されている。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 金属 ,  *誘電体装荷 ,  位相 ,  帯域幅 ,  プロトタイプ ,  後方散乱 ,  *誘電体 ,  レーダ断面積 ,  周期構造 ,  平面構造 ,  *広帯域
準シソーラス用語： ローコスト ,  後方散乱ピーク ,  斜め入射 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： アンテナ  (ND06000M)

タイトルに関連する用語 (3件)： 広帯域 ,  誘電体装荷 ,  RCS