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J-GLOBAL ID:201902274747319198   整理番号:19A1408818

高速NH_3検出のための特別なAg修飾プロセスにより開発した超高感度シリコンナノワイヤセンサ【JST・京大機械翻訳】

Ultrasensitive Silicon Nanowire Sensor Developed by a Special Ag Modification Process for Rapid NH3 Detection
著者 (9件):
資料名:
巻:号: 34  ページ: 28766-28773  発行年: 2017年08月30日 
JST資料番号: W2329A  ISSN: 1944-8244  CODEN: AAMICK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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表面機能化は,化学抵抗性ガスセンサのセンシング特性を増強するのに非常に効果的である。本研究では,Ag修飾シリコンナノワイヤ(SiNW)センサを調製するための新規で費用対効果の高いプロセスを開発し,さらにAg修飾SiNWの増強センシング機構を明らかにするための抵抗効果モデルを提案した。SiNWは金属支援化学エッチング(MACE)により形成され,Agナノ粒子(NP)修飾は,TMAHの重要な異方性ポステッチングを含むことにより,MACE生成Ag樹状突起に基づいてin situで達成された。TMAHエッチングは,小さなAg NPsの堅固な付着を伴う針状の粗いSiNW(RNWs)のゆるいアレイを誘起する。NH_3センシング特性の比較研究は,離散Ag NPs(Ag@RNWs)により修飾されたRNWsが,元のSiNWと比較して,室温でのガス応答において約3倍の増強を示すことを示した。一方,過渡応答と超高速回復がAg@RNWセンサ(t_res≦2sとt_rec≦9s~0.33~10ppmのNH_3)で観察された。本研究で開発したAg改質プロセスのかなりの効果と可能性を実証した。さらに,抵抗効果モデルを提案し,Ag@RNWsの応答と応答飽和特性の応答の基礎となる機構を明らかにした。センシング特性へのTMAHエッチング誘起微細構造変調の促進も実証した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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生物薬剤学(基礎) 
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