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J-GLOBAL ID：201902276315972207   整理番号：19A0843103

還元脱着のサイクリックボルタンメトリーにより決定した多結晶金電極上への2-アミノエタンチオールの吸着動力学と熱力学

Adsorption Kinetics and Thermodynamics of 2-Aminoethanethiol onto a Polycrystalline Gold Electrode Determined by Cyclic Voltammetry of Reductive Desorption

著者 (3件)： NAITO Kumi (Graduate School of Engineering, Nagoya Institute of Technology) ,  IIDA Kanae (Graduate School of Engineering, Nagoya Institute of Technology) ,  TAKADA Kazutake (Graduate School of Engineering, Nagoya Institute of Technology)
資料名： Electrochemistry (Web)  (Electrochemistry (Web))
巻： 87  号： 2  ページ： 114-118(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： U1358A  ISSN： 2186-2451  CODEN： EECTFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多結晶金電極上に形成された2-アミノエタンチオール(AET)単分子層の還元的脱着をサイクリックボルタンメトリーを用いて研究した。3つのカソードピークが観察され,それらは多結晶表面上のAu(111),(100),および(110)の各小領域からの還元的脱着に帰属された。吸着の動力学は,速度制御と拡散制御が濃度範囲5~50μM(M=mol dm^-3)でバランスした条件下にある可能性があったが,100μMでの速度論的制御モデルにより記述された。吸着の熱力学はLangmuir等温式で良く記述された。飽和表面被覆率は5.3×10^-10mol cm^-2であり,AETが多結晶金電極上に平坦に吸着していることを示唆した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 脱着 ,  *サイクリックボルタンメトリー ,  多結晶 ,  *金電極 ,  *吸着 ,  単分子層 ,  カソード還元 ,  結晶面 ,  拡散 ,  吸着等温式 ,  被覆率 ,  *チオール ,  吸着速度 ,  拡散係数 ,  Langmuir吸着等温式 ,  電気化学反応 ,  脂肪族アミン ,  第一アミン

著者キーワード (4件)： 2-アミノエタンチオール ,  吸着 ,  還元脱着 ,  多結晶金電極

分類 (1件)： 固-液界面  (CB12050B)

物質索引 (1件)： 2-アミノエタンチオール

引用文献 (32件)：

• 1) R. W. Murray, Molecular Design of Electrode Surfaces, John Wiley and Sons, New York, NY, (1992).
• 2) A. Ulman, Chem. Rev., 96, 1533 (1996).
• 3) S. Xu, S. J. N. Cruchon-Dupeyrat, J. C. Garno, G.-Y. Liu, G. K. Jennings, T.-H. Yong, and P. E. Laibinis, J. Chem. Phys., 108, 5002 (1998).
• 4) A. Chou, P. K. Eggers, M. N. Paddon-Row, and J. J. Gooding, J. Phys. Chem. C, 113, 3203 (2009).
• 5) C. Berggren, P. Stålhandske, J. Brundell, and G. Johansson, Electroanal., 11, 156 (1999).

タイトルに関連する用語 (7件)： 還元 ,  脱着 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  多結晶 ,  金電極 ,  吸着動力学 ,  熱力学