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J-GLOBAL ID：201902277358908704   整理番号：19A1810773

シリカ粒子の曲面により誘導された同心シリカナノグルーブの形成【JST・京大機械翻訳】

Formation of Concentric Silica Nanogrooves Guided by the Curved Surface of Silica Particles

著者 (8件)： Hara Shintaro (Department of Advanced Science and Engineering, Faculty of Science and Engineering, Waseda University) ,  Hirota Keiya (Department of Applied Chemistry, Faculty of Science and Engineering, Waseda University) ,  Tabe Yuka (Department of Applied Physics, Faculty of Science and Engineering, Waseda University) ,  Tabe Yuka (Kagami Memorial Research Institute for Materials Science and Technology, Waseda University, Japan) ,  Wada Hiroaki (Department of Applied Chemistry, Faculty of Science and Engineering, Waseda University) ,  Shimojima Atsushi (Department of Applied Chemistry, Faculty of Science and Engineering, Waseda University) ,  Kuroda Kazuyuki (Department of Applied Chemistry, Faculty of Science and Engineering, Waseda University) ,  Kuroda Kazuyuki (Kagami Memorial Research Institute for Materials Science and Technology, Waseda University, Japan)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 34  号： 4  ページ： 1733-1741  発行年： 2018年 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノメートルスケールでのボトムアップ過程によるナノパターンの柔軟な制御は,より微細なピッチを持つナノ作製に必須である。Si基板上にサブ5nmの周期性をもつ線形ナノパターンの作製に対して,基板に面する集合ミセルの最外側表面は基本条件下でSi基板から生成した可溶性ケイ酸塩種で複製できることを以前に報告した。本研究では,シリカ粒子によりガイドされた曲がったミセルの最外側表面を複製することにより,Si基板上に5nm以下の周期性を有する同心的に配列したナノ溝を調製した。シリカ粒子と界面活性剤膜を堆積したSi基板をNH_3-水蒸気混合物に曝露した。蒸気処理中に,円筒状ミセルはシリカ粒子に中心を持つ同心パターンに配列し,基板に面する最外側表面はSi基板上の可溶性ケイ酸塩種により複製された。基板上の界面活性剤膜の薄さは,ミセルの面外配向が界面で抑制されるので,同心性シリカナノ溝の形成に重要である。驚くべきことに,同心性シリカナノ溝のドメインは粒子の最大断面積よりもはるかに大きな面積に広がり,ドメインのサイズは粒子の半径と共に直線的に増加した。一つのシリカ粒子の周りのミセルの配向弾性エネルギーに基づいて,同心ナノ溝の拡張を検討した。容易に堆積したナノスケール物体の概要によって導かれた曲がったナノ溝の形成に関する本研究は,新しいナノ構造誘導プロセスを提供する。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 円筒 ,  *ミセル ,  界面活性剤 ,  ナノ構造 ,  可溶性 ,  ケイ酸塩 ,  基板 ,  線形性 ,  界面 ,  断面積 ,  ナノスケール ,  シリコンウエハ ,  ナノパターン ,  *シリカ粒子
準シソーラス用語： ボトムアップ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  界面化学一般  (CB12010J) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  非金属化合物  (CD01070R) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： シリカ粒子 ,  曲面 ,  誘導 ,  同心