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J-GLOBAL ID:201902277496184780   整理番号:19A1895567

田口の直交配列実験によるFTO/ZnOの光エネルギー吸収に及ぼす堆積条件の影響の解明【JST・京大機械翻訳】

Elucidating the influence of deposition condition on light energy absorbance of FTO/ZnO via Taguchi’s orthogonal arrays experiment
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資料名:
巻: 2129  号:ページ: 020058-020058-6  発行年: 2019年 
JST資料番号: D0071C  ISSN: 0094-243X  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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電着法によるフッ素ドープ酸化スズ(FTO)基板上の電着(EDP)酸化亜鉛(ZnO)薄膜の吸光度の増加に対する最適化の応用を調べた。種々のEDPパラメータ設定に関する最適化には,ポテンシャル,電解質濃度,および温度を,3つの因子および3つのレベルのパラメータを用いて,Taguchiの直交配列(OA_9)実験を用いて実施した。吸光度とZnO分散機構を評価した。ANOVAの結果は,電着パラメータの最良の組み合わせが,電位,電解質濃度,および温度に対して,それぞれ-1.2V,0.1M,および65°Cであることを示唆した。結果に基づいて,電着温度は吸光度に寄与する最も重要なパラメータを示した。この知見は,Taguchiの直交配列実験の適用が光エネルギー吸収に及ぼす各パラメータの寄与を認証し,FTO基板上の電着ZnO薄膜に対して10.71%の改善で最高の吸光度を提供することを示した。3.35eVから3.44eVまでのバンドギャップエネルギー範囲はZnO特性を証明した。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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機械的性質  ,  機械加工,仕上げ一般 

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