文献
J-GLOBAL ID:201902277590155123   整理番号:19A1791139

ルチルTiO_2膜のキャリア移動度と二結晶粒界との関係【JST・京大機械翻訳】

The relationship between carrier mobility and bicrystalline grains boundary of rutile TiO2 film
著者 (18件):
資料名:
巻: 33  号: 16  ページ: 1950176  発行年: 2019年 
JST資料番号: T0431A  ISSN: 0217-9849  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: シンガポール (SGP)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
ルチル二酸化チタン(TiO_2)は,高温での安定性のために,センサ分野で大きな関心を引き付けている。しかし,ルチルTiO_2の電子移動効率についてはほとんど知られていない。それは主に電子移動度によって影響される。本研究の目的は,ルチルTiO_2膜のキャリア移動度と双結晶粒境界の間の関係を研究することである。本研究では,150~900Wのスパッタリング出力を有する直流パルスマグネトロンスパッタリング技術により,TiO_2膜を蒸着した。次に,TiO_2膜を空気雰囲気中で[数式:原文を参照]でアニールした。このようにして,ルチルTiO_2膜を得た。ルチルTiO_2膜のキャリア移動度に特別な注意を払った。Hall測定結果は,150から900Wまでのスパッタリングパワーの増加によって,ルチルTiO_2膜のキャリア移動度が,徐々に0.75から[数式:原文を参照]に増加したことを示した。TEMとSAEDの結果を合わせて,著者らのデータは,ルチルTiO_2膜のキャリア移動度が双結晶粒界によって影響されることを示した。大角度双結晶粒界は,ルチルTiO_2膜のキャリア移動度を著しく悪化させた。反対に,低角度双結晶粒界はルチルTiO_2膜のキャリア移動度にほとんど影響しなかった。Copyright 2019 World Scientific Publishing Company All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
溶接技術 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る