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J-GLOBAL ID：201902279906272682   整理番号：19A1196158

HgCdTe材料のヨウ素ベース研磨に関する研究【JST・京大機械翻訳】

Studies on Iodine Based Polishing of HgCdTe Material

著者 (6件)： Nokhwal Radheshyam (Solid State Physics Laboratory, New Delhi, Delhi, India) ,  Goyal Anshu (Solid State Physics Laboratory, New Delhi, Delhi, India) ,  Sharma B. L. (Solid State Physics Laboratory, New Delhi, Delhi, India) ,  Sharma Varun (Solid State Physics Laboratory, New Delhi, Delhi, India) ,  Saxena Raghvendra Sahai (Solid State Physics Laboratory, New Delhi, Delhi, India) ,  Sharma R. K. (Solid State Physics Laboratory, New Delhi, Delhi, India)
資料名： Springer Proceedings in Physics  (Springer Proceedings in Physics)
巻： 215  ページ： 1111-1116  発行年： 2019年 
JST資料番号： W5066A  ISSN： 0930-8989  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Hg_1-xCd_xTe材料エピタキシャル層の表面をヨウ素-ヨウ化カリウムベースの非水溶液によって調製した。この溶液は,X線光電子分光法において明白なように,従来の臭素系エッチング剤と比較して,表面でより良好な化学量論を提供する。また,ヨウ素-ヨウ化カリウム化学溶液でエッチングしたとき,偏光解析測定は表面のより良い清浄度を示した。Nomarski顕微鏡下で観察された形態は,改善された表面を示した。ヨウ素-ヨウ化カリウム系溶液による研磨により調製したHgCdTeの表面におけるAFMを用いて,二乗平均二乗粗さを測定し,~0.74nmであることを見出した。Copyright 2019 Springer Nature Switzerland AG Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： エッチング液 ,  X線光電子分光法 ,  *テルル化カドミウム水銀 ,  *研磨 ,  臭素 ,  化学量論 ,  非水溶液 ,  清浄度 ,  *ヨウ素 ,  ヨウ化カリウム ,  表面粗さ ,  偏光解析法
準シソーラス用語： エピタキシャル層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： HgCdTe ,  粗さ ,  表面形態 ,  XPS

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： HgCdTe ,  ヨウ素 ,  研磨 ,  研究