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J-GLOBAL ID：201902280309235288   整理番号：19A0098755

高荷電イオンで照射したHOPGのESR測定

ESR Measurements of HOPG Irradiated with Highly Charged Ions

著者 (6件)： Nishida Naofumi (Department of Physics, Kobe University) ,  Betsumiya Koji (Department of Physics, Kobe University) ,  Sakurai Makoto (Department of Physics, Kobe University) ,  Sakurai Takahiro (Department of Physics, Kobe University) ,  Terui Toshifumi (National Institute of Information and Communications Technology) ,  Honda Shin-ichi (Graduate School of Engineering, The University of Hyogo)
資料名： e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web)  (e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web))
巻： 16  ページ： 356-359(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： U0016A  ISSN： 1348-0391  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子スピン共鳴(ESR)測定を,高度に荷電したイオン(HCI)を照射した高度に配向した熱分解グラファイト(HOPG)試料について行った。HCIと表面間の相互作用は,可視からX線,数百の二次電子,二次イオンのスパッタリング,およびナノメートルスケールでの表面構造の修飾の範囲で光子の発光をもたらす。本実験では,HCIを電子ビームイオン源(EBIS)により生成し,Ar⁸⁺とAr¹⁴⁺を照射に用いた。ESR測定は試料の不対電子に関する情報を提供する。ESRを用いて入射HCIの電荷状態とフルエンスに対する欠陥形成の依存性を調べた。L1線は低温領域でHCIを照射したHOPG試料に現れ,強度は高い電荷状態と高いフルエンスで大きくなった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *高配向性熱分解グラファイト ,  *ESR【磁気共鳴】 ,  *イオン照射 ,  イオンビームスパッタリング ,  表面構造 ,  表面改質 ,  電子ビーム ,  イオン源 ,  電荷 ,  フルエンス ,  不対電子 ,  格子欠陥 ,  二次イオン ,  イオン注入 ,  イオン衝突 ,  二次電子 ,  欠陥形成 ,  荷電状態 ,  構造
準シソーラス用語： HOPG ,  イオンスパッタリング ,  イオン衝撃 ,  電荷状態 ,  電子スピン共鳴 ,  表面修飾

著者キーワード (6件)： 高荷電イオン ,  HOPG ,  電子スピン共鳴 ,  イオン衝撃 ,  イオン注入 ,  イオン-固体相互作用

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物のEPR  (BM07023D)

引用文献 (14件)：

• [1] M. Tona, S. Takahashi, H. Watanabe, N. Yoshiyasu, N. Nakamura, C. Yamada, M. Sakurai, T. Terui, A. Mashiko, and S. Ohtani, Surf. Sci. 601, 723 (2007). https://doi.org/10.1016/j.susc.2006.11.002
• [2] F. Aumayr and H. P. Winter, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 233, 111 (2005). https://doi.org/10.1016/j.nimb.2005.03.093
• [3] M. Sakurai, M. Tona, S. Takahashi, H. Watanabe, N. Nakamura, N. Yoshiyasu, C. Yamada, S. Ohtani, H. A. Sakaue, Y. Kawase, K. Mitsumori, T. Terui, and S. Mashiko, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 257, 297 (2007). https://doi.org/10.1016/j.nimb.2007.01.060
• [4] M. Sakurai, H. Onishi, K. Asakura, M. Tona, H. Watanabe, N. Nakamura, S. Ohtani, T. Terui, S. Mashiko, and H. A. Sakaue, Vacuum 84, 530 (2009). https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2009.02.013
• [5] S. Liu, M. Sakurai, K. Asakura, N. Iida, M. Tona, and T. Terui, AIP Conf. Proc. 1321, 261 (2011). https://doi.org/10.1063/1.3548367

タイトルに関連する用語 (4件)： 荷電 ,  イオン ,  HOPG ,  ESR