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J-GLOBAL ID：201902280412903744   整理番号：19A1375192

酸化熱処理によるHfO₂強誘電相消失のメカニズム

著者 (4件)： 矢嶋赳彬 (東大) ,  森優樹 (東大) ,  西村知紀 (東大) ,  鳥海明 (東大)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 66th  ページ： ROMBUNNO.10p-W631-5  発行年： 2019年02月25日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 微細化に適した新たな強誘電材料として、不純物ドープしたHfO2が注目されている。しかしモノクリニック相を含む複数の常誘電相が強誘電相と共存するため、材料本来の強誘電性を最大限活用できていないのが現状である。エピタキシャルHfO2薄膜を用いて...【本文一部表示】

シソーラス用語： *酸化ハフニウム ,  *強誘電性 ,  *誘電体薄膜 ,  *ドーピング ,  多結晶 ,  *熱処理 ,  誘電性 ,  *酸化 ,  *誘電転移 ,  ゲルマニウム ,  非晶質 ,  結晶化 ,  スパッタ蒸着 ,  *構造相転移
準シソーラス用語： 常誘電性

分類 (2件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  固相転移  (BL04020G)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸化 ,  熱処理 ,  HfO2 ,  メカニズム